摘要 浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī)技術(shù)參數(shù)提拉行程：0～150mm（可定制行程）提拉速度范圍：1～55000μm/s，小分辨率 1μm/s

摘要浸漬提拉鍍膜 涂膜提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī)型號(hào)：AOD-HTDC-300浸漬提拉鍍膜 涂膜提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī)是適用于溶膠-凝膠法（Sol--Gel法，簡(jiǎn)稱SG法）制備薄膜的浸漬提拉法的一款高精度儀器。核心部件采用進(jìn)口配件，精準(zhǔn)控制提拉速度，多次重復(fù)鍍膜無位置偏差。提拉速度、...

摘要浸漬提拉鍍膜機(jī)/提拉鍍膜機(jī)/鍍膜機(jī) 型號(hào)：DP-100產(chǎn)品應(yīng)用本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中，通過預(yù)設(shè)置的浸漬時(shí)間、提拉速度、提拉度、鍍膜次數(shù)等參數(shù)，將浸漬后的基片以定速度慢慢提拉起來，在基片的表面形成層納米的薄膜。膜層厚...

摘要浸漬提拉鍍膜機(jī)/提拉鍍膜機(jī)/鍍膜機(jī) 型號(hào)：DP-200?參數(shù)1. 提拉速度范圍：10～5000 μm/s，Z小分辨率1μm/s；2. 適用基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 200×200 mm，厚度MAX 10mm；3. 浸漬時(shí)間：1～...

摘要浸漬提拉鍍膜機(jī)/提拉鍍膜機(jī)/鍍膜機(jī) 型號(hào)：DP-300. 產(chǎn)品應(yīng)用本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中，通過預(yù)設(shè)置的浸漬時(shí)間、提拉速度、提拉度、鍍膜次數(shù)等參數(shù)，將浸漬后的基片以定速度慢慢提拉起來，在基片的表面形成層納米的薄膜。膜...

摘要 恒溫型 浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī) 鍍膜機(jī) 型號(hào)：DP-100H提拉速度、提拉度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、控制。對(duì)鍍膜基質(zhì)無殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無振動(dòng)，可大提實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。

摘要 鋨/等離子體鍍膜機(jī)

摘要 中瑞祥高校浸漬提拉鍍膜提拉機(jī) 位置精度：lt;0.01mm#183; 浸漬時(shí)間：1～9999s，小分辨率 1s#183; 鍍膜次數(shù)：1～9999 次，少 1 次；

摘要ZRX-29319實(shí)驗(yàn)室浸漬提拉鍍膜機(jī)是適用于溶膠-凝膠法（Sol--Gel法，簡(jiǎn)稱SG法）制備薄膜的浸漬提拉法的款精度儀器。核心部件采用口配件，控制提拉速度，多次重復(fù)鍍膜無位置偏差。提拉速度、提拉度、浸漬時(shí)間、循環(huán)鍍膜次數(shù)、下降速度、停留時(shí)間均可以通過程序控制。適用...

摘要 產(chǎn)品描述：HMD S真空 鍍膜機(jī) 用途概述 HMDS化學(xué)名叫六甲基二硅胺烷（別名六甲基二硅氮烷），HMDS真空鍍膜機(jī)又稱HMDS基片預(yù)處理系統(tǒng)，指需在低真空度下進(jìn)行的鍍膜。喆圖HMDS真空鍍膜機(jī)對(duì)箱體內(nèi)預(yù)處理過...

摘要※　系列產(chǎn)品參數(shù)型號(hào)項(xiàng)目DH-8DH-14DH-18DH-26DH-26A真空室尺寸　　　mmΦ800×1100Φ1250×1500Φ1600×1750Φ1600×2250Φ2600×2100多弧靶數(shù)量　　　只814182626...

摘要 Nb3Sn薄膜擴(kuò)散鍍膜機(jī)

摘要 JP系列磁控濺射鍍膜機(jī)

摘要 浸漬提拉鍍膜機(jī)浸漬提拉鍍膜機(jī)是適用于溶膠-凝膠法（Sol--Gel法，簡(jiǎn)稱SG法）制備薄膜的浸漬提拉法的一款高精度儀器

摘要 Leica EM ACE600是的多用途高真空薄膜沉積系統(tǒng)，設(shè)計(jì)來根據(jù)您的FE-SEM和TEM應(yīng)用的需要生產(chǎn)非常薄的，細(xì)粒度的和導(dǎo)電的金屬和碳涂層，用于分辨率分析。

摘要倍增級(jí)磁控鍍膜機(jī)主要應(yīng)用于光電倍增管倍增級(jí)表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實(shí)現(xiàn)對(duì)光電倍增管的倍增級(jí)基底進(jìn)行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工藝測(cè)試等功能，可進(jìn)行數(shù)字化編程、程序控制和動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)，能夠?qū)崟r(shí)顯示、記錄、統(tǒng)計(jì)、計(jì)算、保存、輸出各種運(yùn)行數(shù)據(jù)，...

摘要 該設(shè)備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積。可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜，亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機(jī)為雙腔室，共用高真空系統(tǒng)；為避免交叉污染，一個(gè)腔室可實(shí)現(xiàn)電子槍/電阻蒸發(fā)鍍膜，另一腔室可實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜。

摘要 該設(shè)備可沉積單金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，多層膜；主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜（耐磨、防腐、導(dǎo)電膜、絕緣膜等）的研發(fā)和小批生產(chǎn)。

摘要磁控濺射鍍膜機(jī)是應(yīng)用泛的PVD沉積設(shè)備，可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜，亦可鍍鐵磁材料。該設(shè)備主要用于實(shí)驗(yàn)室制備光學(xué)膜層，電學(xué)，光電膜層及其它功能膜層，以及制備用于生長(zhǎng)納米材料的催化...

摘要 該設(shè)備可沉積金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，可進(jìn)行反應(yīng)濺射；用于硬質(zhì)膜，裝飾膜及其它功能膜的研究開發(fā)。

摘要 該設(shè)備在同一真空室內(nèi)具有熱蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜功能，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積；可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜，亦可鍍鐵磁材料。

摘要 該設(shè)備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)，四對(duì)電極可單獨(dú)或同時(shí)蒸發(fā)不同的材料。設(shè)備為立式頂開蓋結(jié)構(gòu)，四對(duì)電極可單獨(dú)或共蒸發(fā)，樣品Φ300（max），樣品臺(tái)公自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速2-20rpm可調(diào)；流量計(jì)控制氣體流量，滿足離子轟擊壓力要求。

摘要該設(shè)備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質(zhì)膜等，用戶可以根據(jù)工藝的需要選擇單靶獨(dú)立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設(shè)備由主腔室和預(yù)備室兩個(gè)真空室組成。主腔室用于鍍制薄膜，完成用戶主要鍍膜工藝過程。預(yù)備室通過高真空插板閥與主腔室相連，可以用于鍍...

摘要倍增級(jí)磁控鍍膜機(jī)主要應(yīng)用于光電倍增管倍增級(jí)表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實(shí)現(xiàn)對(duì)光電倍增管的倍增級(jí)基底進(jìn)行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工藝測(cè)試等功能，可進(jìn)行數(shù)字化編程、程序控制和動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)，能夠?qū)崟r(shí)顯示、記錄、統(tǒng)計(jì)、計(jì)算、保存、輸出各種運(yùn)行數(shù)據(jù)，...

摘要 產(chǎn)品詳情更多光學(xué)鍍膜機(jī)是用于紅外截止濾光片、分色濾光片等光學(xué)鏡片成膜的真空鍍膜裝置

摘要 浸漬提拉鍍膜機(jī)浸漬提拉鍍膜機(jī)是適用于溶膠-凝膠法（Sol--Gel法，簡(jiǎn)稱SG法）制備薄膜的浸漬提拉法的一款高精度儀器

摘要 DH-450系列高真空鍍膜機(jī)為箱式前開門電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，采用系統(tǒng)框架，結(jié)構(gòu)緊湊，外觀更漂亮，使用更安全

摘要 半導(dǎo)體加熱管真空鍍膜機(jī)用電熱管光伏設(shè)備用發(fā)熱管加熱板廠家直供

摘要浸漬提拉鍍膜機(jī)ZRX-29319是適用于溶膠-凝膠法（Sol--Gel法，簡(jiǎn)稱SG法）制備薄膜的浸漬提拉法的款精度儀器。核心部件采用口配件，控制提拉速度，多次重復(fù)鍍膜無位置偏差。提拉速度、提拉度、浸漬時(shí)間、循環(huán)鍍膜次數(shù)、下降速度、停留時(shí)間均可以通過程序控制。適用于玻璃...

摘要 低真空鍍膜機(jī)噴金儀|噴碳儀|蒸鍍儀LeicaEMACE200為SEM和TEM分析生產(chǎn)同質(zhì)和導(dǎo)電的金屬或碳涂層，之前從未有過比與LeicaEMACE200涂層系統(tǒng)更方便的設(shè)備了

摘要 濺射鍍膜機(jī)LeicaEMACE600碳、電子束和濺射鍍膜——精度值得信賴使用EMACE600濺射鍍膜機(jī)，充滿信心地制備用于電鏡分析的細(xì)粒度薄膜

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：臺(tái)式磁控濺射鍍膜機(jī)可提供單陰極和雙陰極配置。所有磁控管濺射配置均為向下濺射模式。···

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：NE-800C型熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)能通過對(duì)碳纖維繩加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成···

摘要 一.產(chǎn)品應(yīng)用本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料

摘要小型蒸鍍儀熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)KT-Z1650CVD是一款小型臺(tái)式蒸發(fā)功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻蒸發(fā)沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品...

摘要真空電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)CRTE直徑觀察口匹配雙級(jí)旋轉(zhuǎn)葉片泵的渦輪分子真空泵系統(tǒng)帶沉積控制器的石英晶體厚度傳感器帶數(shù)字顯示和讀數(shù)的全量程真空計(jì)最多四個(gè)帶獨(dú)立百葉窗的電阻熱源半自動(dòng)控制系統(tǒng)真空電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)具有箱形或D形腔室，其數(shù)量與的源數(shù)量相同,標(biāo)準(zhǔn)真空系統(tǒng)是渦輪或...

摘要 NadetechND-DC浸漬鍍膜機(jī)是一種自動(dòng)化的單元，是一款采用垂直提拉法的浸漬鍍膜機(jī)

摘要 上海伯東代理超高真空磁控濺射鍍膜機(jī). 真空度高 5E-10 Torr, 特比適合生長(zhǎng)高質(zhì)量的薄膜或超薄膜, 金屬與絕緣材料. 使用德國 Pfeiffer 分子泵和美國 KRI 離子源.

摘要 上海伯東代理 E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī) ( 電子蒸鍍 ), zui大真空度可達(dá) 5E-10 torr, 提供客制化服務(wù).

摘要 KSVNIMADipCoater浸漬鍍膜機(jī)儀器簡(jiǎn)介：儀器用途：用于溶液中的物質(zhì)在基片上的成膜儀器原理：固體基片在沒有表面壓縮時(shí)

摘要 把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對(duì)鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程，稱為真空蒸發(fā)鍍膜，簡(jiǎn)稱蒸發(fā)鍍膜或蒸鍍

摘要 利用優(yōu)異保溫效果的坩堝實(shí)現(xiàn)有機(jī)物材料的穩(wěn)定蒸發(fā)，同時(shí)借助超高精度的石英晶振達(dá)到蒸發(fā)速率的確控制，矽碁科技可提供性能穩(wěn)定的有機(jī)物蒸發(fā)鍍膜機(jī)，主要用于有機(jī)物材料驗(yàn)證，OELD器件鍍膜機(jī)，OPV器件鍍膜機(jī)，有機(jī)CMOS鍍膜機(jī)等

摘要 立式線性連續(xù)磁控濺射適用于大尺寸基板產(chǎn)品的研發(fā)及生產(chǎn)，設(shè)備由進(jìn)樣室，濺鍍室，出樣室和基片傳遞機(jī)構(gòu)組成，可實(shí)現(xiàn)連續(xù)鍍膜，廣泛應(yīng)用于顯示器件及光伏電池薄膜的開發(fā)及生產(chǎn)

摘要 對(duì)傳統(tǒng)熱蒸發(fā)技術(shù)難以實(shí)現(xiàn)的材料蒸發(fā)，可采用電子束蒸發(fā)(E-beamEvaporation)的方式來實(shí)現(xiàn)

摘要 多工位磁控濺射鍍膜機(jī)可同時(shí)放置多片基片，適應(yīng)研發(fā)線或中試線的小批量生產(chǎn)