一、應用領域:
該設備可沉積金屬、合金、及多種介質膜,可進行反應濺射;用于硬質膜,裝飾膜及其它功能膜的研究開發。
二、性能參數:
1. Φ500x500立式水冷腔體,
2. 配DN100多弧靶3只,4″平面圓靶1只;
3. 平面靶配1000w射頻電源;系統可加偏壓,偏壓電源為脈沖直流,功率2000W;
4. 工藝加熱溫度500℃,
5. 樣品架公自轉,公轉轉速0-50rpm可調;
6. 系統配4路MFC工藝氣體。
一、應用領域:
該設備可沉積金屬、合金、及多種介質膜,可進行反應濺射;用于硬質膜,裝飾膜及其它功能膜的研究開發。
二、性能參數:
1. Φ500x500立式水冷腔體,
2. 配DN100多弧靶3只,4″平面圓靶1只;
3. 平面靶配1000w射頻電源;系統可加偏壓,偏壓電源為脈沖直流,功率2000W;
4. 工藝加熱溫度500℃,
5. 樣品架公自轉,公轉轉速0-50rpm可調;
6. 系統配4路MFC工藝氣體。
產品名稱 | 參考價 | 地區 | 公司名稱 | 更新時間 | |
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