把待鍍膜的基片或工件置于真空室內,通過對鍍膜材料加熱使其蒸發氣化而沉積基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程,稱為真空蒸發鍍膜,簡稱蒸發鍍膜或蒸鍍。
技術參數:
1 本底真空10-7 Torr;
2 束源爐,坩堝,蒸發舟等;
3 石英晶振測量膜厚;
4 基片加熱溫度可選:300℃/500℃/850℃;
5 可配備離子束輔助沉積;
6 可配備快速進樣室;
7 可與手套箱集成;
8 可根據用戶要求定制系統;
把待鍍膜的基片或工件置于真空室內,通過對鍍膜材料加熱使其蒸發氣化而沉積基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程,稱為真空蒸發鍍膜,簡稱蒸發鍍膜或蒸鍍。
技術參數:
1 本底真空10-7 Torr;
2 束源爐,坩堝,蒸發舟等;
3 石英晶振測量膜厚;
4 基片加熱溫度可選:300℃/500℃/850℃;
5 可配備離子束輔助沉積;
6 可配備快速進樣室;
7 可與手套箱集成;
8 可根據用戶要求定制系統;
產品名稱 | 參考價 | 地區 | 公司名稱 | 更新時間 | |
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