一、應用領域
該設備為高真空多用途電阻蒸發鍍膜機,四對電極可單獨或同時蒸發不同的材料。設備為立式頂開蓋結構,四對電極可單獨或共蒸發,樣品Φ300(max),樣品臺公自轉,公轉轉速2-20rpm可調;流量計控制氣體流量,滿足離子轟擊壓力要求。
二、性能參數
1. 鍍膜室尺寸:Φ450×500mm鐘罩
2. 鍍膜有效尺寸:Φ300mm
3. 離子轟擊功率:0.6kW
4. 恢復真空抽氣時間(min):<30
5. 蒸發源數目:4對,帶電動擋板;
6. 蒸發源功率:2kW (可選電流、電壓控制);
7. 偏壓、膜厚儀、薄膜規、樣品臺加熱可選;
8. 工藝氣體:MFC 1路;