立式線性連續磁控濺射適用于大尺寸基板產品的研發及生產,設備由進樣室,濺鍍室,出樣室和基片傳遞機構組成,可實現連續鍍膜,廣泛應用于顯示器件及光伏電池薄膜的開發及生產。矽基具備豐富的工業級大尺寸設備生產經驗,目前在廣東及北京地區均有線性連續磁控濺射設備銷售實績。
技術參數:
1 本底真空10-7 Torr;
2 基片尺寸:490x390 mm (玻璃基片);
3 基片直立傳送,傳送速度可調節;
4 基片可加熱至400℃;
5 濺鍍室數量可自由拓展;
6 20英寸基片內鍍膜均勻性優于 ±3%;