濺射鍍膜機 Leica EM ACE600

碳、電子束和濺射鍍膜——精度值得信賴

使用 EM ACE600 濺射鍍膜機，充滿信心地制備用于電鏡分析的細粒度薄膜。 精確的自動化碳鍍膜和濺射鍍膜工藝可產生值得信賴的可重現結果，提高每次運行的樣本產出。

通過方便的前門裝載方法、僅需按下一個按鈕即可啟動的收料即鍍式自動化鍍膜過程，EM ACE600 可以讓您簡單可靠地制備常規樣本并節省寶貴的時間。

適合廣泛應用領域的高真空鍍膜系統

EM ACE600 濺射鍍膜機裝有可配置式金屬處理室，十分靈活，適合廣泛的應用領域。 實現工作流程目標，滿足實驗室需求——可在同一個制備過程中運行兩個不同的濺射源，還可配置 EM ACE600 用于高級冷凍工作流程。

無論您需要……

●對扁平或結構化的非導電樣本進行高分辨率成像

●增強納米級結構（如蛋白質或 DNA 鏈）的對比度

●生成透射電鏡 (TEM) 載網的薄而堅固的支撐層，或者

●為敏感樣本提供保護層

●擴展冷凍應用中的系統

……使用 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機，皆可實現。

通過濺射鍍膜獲得可重現的高品質薄膜

使用 EM ACE600 高真空鍍膜系統，每次運行均可始終一致地生成高品質的濺射鍍膜薄膜。 使用收料即鍍的自動化濺射鍍膜工藝，滿足*鍍膜所需的適當條件并實現可重現的結果。

可進行高達 200kX 的高放大倍率掃描電鏡 (SEM) 分析，具有出色的基礎真空度（<2x10-6 mbar），可為各種不同的濺射靶材仔細均衡調整工藝參數。="">

為進一步加強鍍膜效果，可以使用 Meissner 捕集器將真空度提高到 10-7 mbar，之后再嘗試對氧敏感的濺射靶材或樣本材料。

不同材料的2納米厚的細粒度濺射鍍膜，沉積在 SiOx 基材上，200kX 放大倍率。

通過碳鍍膜獲得可重現的高品質薄膜

EM ACE600 可以通過碳絲鍍膜、碳棒鍍膜或電子束蒸發生成高品質碳膜。

自從徠卡顯微系統開發出應用于 EM ACE600 的自適應脈沖方法以來，

碳絲蒸發已成為一種廣泛使用的方法。 它可生成精確、穩定、非晶態的亞納米級厚度的薄膜，同時限度減少對樣本的熱損傷影響。 無論您需要納米級厚度、堅固且潔凈的透射電鏡支撐層、擴散（保護）鍍膜還是大面積均質碳層，碳絲都是適合您需求的。

對于專用應用領域，如旋轉投影，可以使用電子束蒸發器。 其小光束發散功能非常適合投影鍍膜，可增強納米級結構的邊緣對比度。

精確碳沉積（1 - 5納米厚碳膜）

按需配置 EM ACE600

通過 EM ACE600 的大型可配置金屬處理室，可在不破壞真空的情況下用一臺鍍膜機運行多個制程。 同時，將濺射頭與*的碳絲蒸發器結合使用或者選用兩個濺射源，可在一次制備過程中完成多層金屬鍍膜。

●采用經過優化的帶兩個斜角端口和一個旋轉臺的雙源方法，可在整個100毫米樣本臺上生成均勻分布的薄膜

●有穩定的碳絲、電子束和濺射鍍膜機濺射源可供選擇

●為您的 EM ACE600 裝配輝光放電濺射功能

●可隨時在現場升級

適用于雙源的 ACE600 可配置端口。 有以下配置可供選擇： 1- 碳絲蒸發 | 2- 濺射 | 3- 碳棒蒸發 | 4- 電子束蒸發

專注于制備過程的關鍵部分

使用 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機，只需按下一個按鈕即可讓您充滿信心地完成常規樣本制備。 簡單可靠的工作流程和便捷的標準操作程序讓您能夠專注于電鏡樣本制備的關鍵部分。 您可以專注于優化工作流程，減少自己學習操作方法或培訓他人使用方法的時間。

●通過前門安全裝卸敏感樣本

●基于工作流程的用戶界面，可快速訪問相關參數，全程引導式操作

●輕量、穩定的濺射源，方便日常操作

EM ACE600 觸摸屏，通過基于工作流程的用戶界面操作

擴展至冷凍工作流程

在冷凍條件下為樣本鍍膜，提升實驗室電鏡實驗能力。 將樣本冷凍斷裂和冷凍鍍膜后，通過 EM VCT500 傳輸系統將冷凍樣本傳輸至掃描電鏡，EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機可幫助制備樣本用于研究，如在生物樣本原生和水合狀態下的結構分析。

EM ACE600 提供：

用于傳輸冷凍樣本的接口

用于低溫冷凍條件下鍍膜的冷凍臺

基本型斷裂裝置

裝配 EM VCT500 冷凍傳輸系統的 EM ACE600

選擇優化配置

配置 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機，滿足實驗室日常工作需求。

有各種樣本支架和樣本臺可供選擇，例如帶有多達 3 個電動軸的 3 軸樣本臺或專用冷卻臺。

可快速更換的樣本臺基片使 EM ACE600 成為多功能工具。

1：電動 3 軸樣本臺 | 2：旋轉投影（LARS）樣本臺 | 3：旋轉“手動”樣本臺 | 4：冷凍臺

超薄碳膜

碳鍍膜在電鏡領域的應用十分廣泛。 它需要具有導電性，但對電子束透明，并且不能具有顆粒結構。

采用自適應脈沖方法的 EM ACE600 碳絲所生成的薄膜，厚度精確、堅固并具有導電性，還可以通過烘焙法進一步減少污染。 最終，這類薄膜提供：

●對電子的高透明度

●足以承受電子轟擊的強度

●均勻的厚度，這對于分析研究、定量成像或電子斷層掃描至關重要

A：常規碳膜（15納米碳）；B：超薄碳膜（3納米）。 輕松觀察硒化鎘 (CdSe) 量子

片的晶格。 圖片由比利時 Eva Bladt 和 Sara Bals（EMAT，安特衛普大學）采集。

提供方： Frederic Leroux 和 Jan de Weert。 樣本提供方： Daniel Vanmaekelbergh，

烏特勒支大學納米材料科學研究所（Debye Institute for Nanomaterials Science, University of Utrecht）

旋轉投影—使納米級結構清晰可見

以專用小角度旋轉投影（LARS）設置配置 EM ACE600，可在透射電鏡中對納米級結構（如蛋白質或 DNA 鏈）成像。 EM ACE600 電子束源與電動 LARS 樣本臺將指令、低熱損傷影響、薄膜沉積與優化的樣本臺幾何結構相結合，可實現掠角入射沉積。 用細粒度鉑層以小角度對 DNA 鏈進行投影鍍膜，然后添加碳層穩定脆性結構，以便在 TEM 中進行分析。

出芽酵母（S.cerevisiae，釀酒酵母）的 DNA 復制分叉的 TEM 圖片，

使用 EM ACE600 電子束鍍膜機通過小角度旋轉投影方法獲得

標準掃描電鏡工作流程

使用標準掃描電鏡工作流程研究化學固定樣本的表面結構。 使用 EM TP 組織處理機制備樣本，然后使用 EM CPD300 對樣本進行臨界點干燥。 下一步是使用 EM ACE200 或 EM ACE600 對樣本鍍膜，然后在掃描電鏡中成像。

1）自動組織處理（EM TP） |（2）自動臨界點干燥（EM CPD300） |

（3）碳鍍膜和/或濺射鍍膜（EM ACE200 / EM ACE600） |（4）在 SEM 中分析圖像