單溫區(qū)PECVD系統(tǒng)

產(chǎn)品描述：

該爐由_{TL1200真空管式爐}、石英真空室、射頻電源、_{GX供氣系統(tǒng)}、_{抽氣系統(tǒng)}、真空測(cè)量系統(tǒng)組成。采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，抽真空時(shí)真空度能夠達(dá)到10^-3Pa。該爐安裝有行程開關(guān)，當(dāng)爐蓋打開時(shí)會(huì)自動(dòng)切斷電源。該爐通過射頻電源把石英真空室內(nèi)的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應(yīng)力大小比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高所需的溫度更低。

技術(shù)參數(shù)：

1.額定溫度：1100℃                        2.溫度：1200℃                          3.電壓：220V

4.加熱元件：瑞典Kanthal-A1電阻絲        5.熱電偶：K型

6.溫控方式：智能化30段可編程控制         7._射頻電源：詳細(xì)參數(shù)請(qǐng)點(diǎn)擊鏈接地址

8.升溫速率：≤20℃/min 推薦升溫速率：≤10℃/min

9.真空法蘭和接頭：請(qǐng)咨詢相關(guān)業(yè)務(wù)人員           

10.質(zhì)量流量計(jì)： 請(qǐng)咨詢相關(guān)業(yè)務(wù)人員