關鍵詞：磁控濺射、電子束蒸鍍、超高真空、鍍膜、約瑟夫森結、超導、量子器件、量子比特、

                多腔體、Qubit、UHV、鈮基超導、氮化鈮、鈦氮化鈮、NbTiN、NbN、sputtering system

                Evaporation system、Nb-based superconductor、超導鋁結、Josephson junction

型號：MEB 550SL3      產(chǎn)地：歐洲       應用：約瑟夫森結（Al, Nb, NbN, NbTiN）

超高真空多腔體電子束蒸發(fā)鍍膜儀

電子束蒸鍍儀是納米器件制備中的儀器，用于蒸鍍各種高純金屬薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。電子束蒸發(fā)沉積法可在同一蒸發(fā)沉積裝置中安裝多個坩堝，使得可以蒸發(fā)和沉積多種不同的高質(zhì)量金屬薄膜。開展量子計算機實驗研究，如基于金剛石NV色心，離子阱，超導量子結，量子點電子自旋的研究，均需要蒸鍍各種高質(zhì)量金屬薄膜來制備量子器件，特別是在利用超導量子結來實現(xiàn)量子計算的實驗研究中，Josephson結的制備關鍵：需要在非常干凈的蒸鍍腔里進行，而且需要在不同的角度上蒸鍍兩次，兩次之間需要注入氧氣進行金屬氧化。所以樣品臺必須具有三維的旋轉(zhuǎn)功能，同時，蒸鍍腔內(nèi)還需要有可以注射氧氣及其他氣體來實現(xiàn)清潔和氧化過程。

推薦配置：可以用于沉積Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金屬及氧化物薄膜，目前主要超導量子實驗室均使用該設備制備超導Al結（量子比特和約瑟夫森結）和量子器件，可以制備大面積、高度穩(wěn)定性和可重復性超導結。更詳細信息或資料，請咨詢我們！

典型用戶：耶魯大學、日本NTT、中科院下屬研究所等

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