關鍵詞：多靶磁控濺射、共濺射、Co-sputter、金屬膜、氧化膜、半導體膜、非金屬膜、約瑟夫森結、
超導、量子器件、量子比特、 Qubit、鈮基超導、氮化鈮、鈦氮化鈮、NbTiN、NbN、
sputtering system、Josephson junction
設備型號：MP600S; 產地：歐洲； 應用：制備鈮基超導結或濺射其他膜材
磁控濺射鍍膜系統可以沉積各種金屬、半導體、非金屬薄膜，又特別適合用于超導量子結、約瑟夫森結等量子器件的制備，例如：超導Nb、NbN、NbTiN及其他材料等，
目前，包括物理所、清華大學、哈爾濱工業大學、蘇州醫工所、長春光機所、上海酸鹽研究所等單位均在使用相關設備；在國際上也獲得了美國(Yale Univ, Princeton Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon）、英國（Glasgow Univ）、德國（KIT Karlsruhe, Dresden Univ）、日本(NTT, RIKEN, Tokyo Univ)、加拿大(Waterloo Univ, Sherbrooke Univ)、法國 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN, Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers Univ)、俄羅斯(SKOLKOVO)、意大利（STMicroelectronics）等國家的機構的高度認可。
