小型溫控蒸發鍍膜儀
并精 確控制溫度在200ºC-1500ºC的范圍內進行變化，在對樣品進行蒸發鍍膜的過程中，樣品臺可進行旋轉，以獲得更均勻的薄膜。本型號的小型程序控溫蒸發鍍膜儀應用范圍廣，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜，因此被廣泛用于電極的制備和有機物發光LED的制備。儀器體積小巧，可有效節約實驗室空間；操作簡單，對不同材料的適應性強，因此被廣泛應用于各大高校和科研院所的實驗室當中。
簡單介紹：小型溫控蒸發鍍膜儀
本小型程序控溫蒸發鍍膜儀可對程序進行設定，并精 確控制溫度在200ºC-1500ºC的范圍內進行變化，在對樣品進行蒸發鍍膜的過程中，樣品臺可進行旋轉，以獲得更均勻的薄膜。本型號的小型程序控溫蒸發鍍膜儀應用范圍廣，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜，因此被廣泛用于電極的制備和有機物發光LED的制備。儀器體積小巧，可有效節約實驗室空間；操作簡單，對不同材料的適應性強，因此被廣泛應用于各大高校和科研院所的實驗室當中。
詳情介紹：
產品介紹小型溫控蒸發鍍膜儀
本蒸發鍍膜儀在對樣品進行蒸發鍍膜的過程中，樣品臺可進行旋轉，以獲得更均勻的薄膜。本型號的小型程序控溫蒸發鍍膜儀應用范圍廣，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜，因此被廣泛用于電極的制備和有機物發光LED的制備。儀器體積小巧，可有效節約實驗室空間；操作簡單，對不同材料的適應性強，因此被廣泛應用于各大高校和科研院所的實驗室當中。
產品特點
1.本設備采用石英腔體，易于清潔和樣品的放入；
2.樣品臺可以旋轉，鍍膜效果能夠更加均勻；
3.采用鎢絲作為發熱源，*高溫度可達到1700℃，并配有的氧化鋁舟裝載樣品（僅1600ºC以下使用，若蒸發溫度大于1600ºC，樣品應直接放在鎢絲籃中）；
4.并且可將設備轉換到手動調節狀態，內部不安裝熱電偶，直接采用手動調節輸出電流大小，發熱源溫度可達2000ºC，可達到對樣品鍍碳等實驗要求。
5.可向真空腔體中通入惰性氣體，對腔體進行清洗，也可通入反應氣體，進行反應蒸發鍍膜。
6.進氣口配有針閥，用于調節進氣流量。
