【儀表網 儀表產業】芯片制造所需的光刻機一直以來被荷蘭ASML公司壟斷，一臺精密光刻機售價上百億，而我國半導體行業起步較晚，光刻機技術與ASML的差距非常大。
ASML在7nm級別，而大族激光僅為μm級別(1μm是1000nm)。因為光刻機每上一個臺階技術難度就會大大增加，可能從90nm升級到65nm并不難，但是從65nm升級到45nm，就是一個技術節點了，上升到7nm更是難上加難。
光刻機是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。而光刻機是中國芯片發展的大障礙。據有關媒體報道，光刻機正成為華為的第四場戰役。據悉，余承東在一次百人大會上的時候透露過，早在四年前，華為就已經為接下來集團的布局做好準備了，他們在2016年的時候就已經成立了團隊去研發光刻機，現在已經取得了很大的進展。
大族激光8月10日在互動平臺表示，公司在研光刻機項目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等方面的應用，目前已接到少量訂單。
光刻機的品牌眾多，根據采用不同技術路線的可以歸納成如下幾類：的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，光刻機號稱世界上精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。光刻機堪稱現代光學工業之花，其制造難度之大，*世界只有少數幾家公司能夠制造。
國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國)，日本Nikon(intel曾經購買過Nikon的光刻機)和日本Canon三*品牌為主。位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產權的投影式中端光刻機，形成產品系列初步實現海內外銷售。正在進行其他各系列產品的研發制作工作。
生產線和研發用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，分辨率通常在數微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。
所有評論僅代表網友意見，與本站立場無關。