預處理腔:襯底旋轉、傾斜(3D);真空度10-8 Torr
蒸發鍍膜腔:電子槍6-15KW;
可加載4英寸襯底;襯底旋轉、傾斜,精度和重復性優于0.01°(可升級)
真空度10-10 Torr或10-11 Torr
頻率分辨率10-4 Hz或更高;速率分辨率10-3 nm/s;厚度分辨率10-2 nm
氧化腔體:靜態/動態氧化(氧氣、氮氣等);
真空度<10-8 Torr
全自動軟件包,支持半自動和手動模式,支持遠程網絡操作和維護。
典型用戶:耶魯大學、日本NTT、中科院物理所等
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