潔凈精準溫控系統：實現 5℃-35℃寬域控溫（靜態精度 ±0.5℃）。針對潔凈室的溫濕度均勻性要求，通過 FFU 風機過濾單元與分布式送回風設計，確保車間內任意點溫差≤±1℃，濕度偏差控制在 ±2% RH 以內，懸浮粒子濃度（0.5μm）≤3520 粒 /m3（符合 ISO 5 級潔凈標準）。相比傳統空調，光刻機工作環境穩定性提升 40%，顯示面板光刻線寬偏差縮小至 ±0.1μm，有效減少因溫濕度波動導致的工藝缺陷。
智能工藝聯動技術：搭載潔凈室專用 PLC 與高精度溫濕度傳感器，實時采集車間溫濕度、工藝設備發熱功率、空氣潔凈度等 12 項參數，通過負荷預測算法動態調節制冷量與加濕量。支持與廠房 MES 系統對接，根據生產節拍（如晶圓曝光時段自動增強控溫）切換運行模式，實現 “高精密加工 - 穩定”“設備待機 - 節能運行” 的智能匹配。操作人員通過 10 寸無塵觸摸屏監控三維溫濕度場，系統自動生成環境參數報告（月度溫濕度波動≤±0.3℃/±2% RH）。
低微粒與安全設計：與循環水接觸部件采用 316L 不銹鋼材質，內壁電解拋光（Ra≤0.8μm），避免微粒脫落（≤1 個 /ft3@0.1μm），水路系統配備超純水過濾裝置（電阻率≥18.2MΩ?cm），符合 SEMI F47 標準。設備外殼采用無磁不銹鋼，表面防靜電處理（表面電阻 10?-10?Ω），防護等級達 IP54，適應 Class 5 級潔凈室環境。配備多重安全保護：超溫聯鎖（室溫超 28℃立即報警）、濕度異常保護（RH＜35% 或＞65% 自動調節）、空氣微粒超標預警，符合 GB 50472-2008 電子工業潔凈廠房設計規范，保障精密制造安全。
半導體晶圓廠：用于 12 英寸晶圓制造潔凈室（Class 5 級），通過控制光刻區溫度在 23℃±0.1℃、濕度 45%±2% RH，確保光刻機曝光精度達 1nm 級，晶圓良率提升 5% 以上，滿足 7nm 以下制程需求。
OLED 顯示面板廠：在蒸鍍車間（Class 4 級潔凈室）采用分布式冷水機方案，控制基板傳輸區溫度在 20℃±0.2℃，使面板殘影不良率下降至 0.1% 以下，適配柔性 OLED 屏幕的量產需求。
電子元器件廠房：針對 MLCC（多層陶瓷電容器）燒結后的冷卻，通過 25℃±0.5℃精準控溫與低振動設計（振動加速度≤0.1g），使元件容量偏差控制在 ±1% 以內，滿足汽車電子的高可靠性要求。
光伏電池片工廠：在 PERC 電池片鍍膜工序中，為 PECVD 設備提供 22℃±0.3℃冷卻，控制鍍膜均勻性偏差≤2%，電池轉換效率提升 0.3% 以上，適應 GW 級光伏產能的穩定生產。
