高通量，提高成本收益
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可獲得高質量切割截面，區域尺寸可達>4×1 mm。
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多樣品臺設計可一次運行容納三個樣品。
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離子研磨速率高，Si 材料 150 μm/h，50 μm 切割高度，可滿足實驗室高通量要求。
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可容納樣品尺寸為 50×50×10 mm。
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可使用的樣品載臺多種多樣。
簡單易用，高精度
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可簡易準確地完成將樣品安裝到載臺上以及調節與擋板相對位置的校準工作。
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通過觸摸屏進行簡單操控，不需要特別的操作技巧。
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樣品處理過程可實時監控，可以通過體視鏡或 HD-TV 攝像頭觀察。
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LED照明，便于觀察樣品和位置校準。
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內置式，解耦合設計的真空泵系統，提供一個無振動的觀察視野。
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可在制備好的平整的切割截面上可再進行襯度增強作用，即離子束刻蝕處理。
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幾乎適用于任何材質樣品。
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使用冷凍樣品臺，擋板和樣品溫度可降至-150 °C。
多種多樣的樣品載臺
幾乎適合于各式尺寸樣品，并適合于廣泛用途。如用一個樣品托，就可以完成前機械預制備(Leica EM TXP)至離子束切割(Leica EM TIC 3X)，以及 SEM 鏡檢，然后再放入樣品存儲盒中以備后續檢測。
襯度增強作用
在離子束切割之后，無需取下樣品，用同樣的樣品載臺還可對樣品進行襯度增強作用，可以強化樣品內不同相之前的拓撲結構(如晶界)。
人體工學設計，簡單易用；與LeicaEMTXP相兼容。
| 技術參數 | |
| 樣品尺寸 | 可容納樣品尺寸50X50X10mm，可獲得有效切割截面面積>4mmX1mm 表面拋光可容納樣品φ38mm，厚度12mm |
| 離子槍 | |
| 離子槍類型 | 3 只鞍式離子槍，獨立電源控制。 |
| 離子束能量 | 1 keV - 10 keV |
| 離子束電流 | 0.5 - 4.5 mA，0.1 mA 步長調節 (單個離子槍) |
| 離子束密度 | 10 mA/cm2(單個離子槍) |
| 切割速率(邊緣 50 μm 處) | 2.5 μm/min (99% Si:10 keV，3.5 mA) |
| 陰極使用壽命 | > 350 h(8 kV，3.0 mA) |
| 工作氣體 | |
| 氬氣，純度 99.999%(也可以使用其他氣體)。 | |
| 輸入氣壓 0.2 - 0.8 bar | |
| 觀察系統 | |
| S6E():放大倍率(40 x)、分辨率(~ 12 μm)。 | |
| M80():放大倍率(77 x)、分辨率(~ 7 μm)。 | |
| M80():放大倍率(23 x)、分辨率(~ 3 μm)。 | |
| 樣品臺 | |
| 可選配：液氮制冷冷臺-150°至30°，25L液氮罐及自動泵，具有自動快速制冷功能 | |
| 可選配：三樣品臺，可一次連續處理三個樣品 | |
| 可選配：旋轉樣品臺，用于對樣品進行離子束拋光 | |
| 環境條件 | |
| 濕度 | ≤ 80%(無冷凝水)。 |
| 溫度 | 15 °C - 30 °C |
| 海拔 | 低于2000 m |
| 設備污染指數(IEC 61010-1) | 2 |
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