Leica EM ACE200
濺射和碳絲蒸發(fā)鍍膜，獲得的可重復性鍍膜
Leica EM ACE200是一款高品質(zhì)臺式鍍膜儀，用來制備電子顯微鏡所需的均勻的金屬導電膜或碳膜。這款自動化設備既可以配置成濺射鍍膜儀又可以配置成碳絲蒸發(fā)鍍膜儀。或者，根據(jù)需要，Leica EM ACE200 可以在一臺設備上裝配可調(diào)換鍍膜源，實現(xiàn)兩種鍍膜方式。
另外，可選配的功能有：
- 石英片膜厚監(jiān)控-用于制備可重復性鍍膜
- 行星旋轉樣品臺-用于對裂紋型樣品噴鍍均勻鍍膜
- 輝光放電功能-使TEM網(wǎng)格親水化
Leica EM ACE600
高真空鍍膜儀 – 配置您的鍍膜體系 – 我們鑄造您真正需要的鍍膜儀
Leica EM ACE600 是一款多功能型高真空鍍膜系統(tǒng)，用于制備超薄，細顆粒的導電金屬膜和碳膜，以適用于 FE-SEM 和 TEM 超高分辨率分析所需的鍍膜要求。這一款全自動臺式鍍膜儀，包含內(nèi)置式無油真空系統(tǒng)，石英膜厚監(jiān)控系統(tǒng)和馬達驅動樣品臺（旋轉為標配 ，傾斜和高度馬達驅動為選配）。
Leica EM ACE600 可以配置如下鍍膜方式：
- 金屬濺射鍍膜
- 碳絲蒸發(fā)鍍膜
- 碳棒蒸發(fā)鍍膜（帶有熱阻蒸發(fā)鍍膜選配件）
- 電子束蒸發(fā)鍍膜
- 輝光放電
- 連接VCT樣品交換倉，與徠卡EM VCT配套實現(xiàn)冷凍鍍膜，冷凍斷裂，雙復型，冷凍干燥和真空冷凍傳輸
| LEICA EM ACE600技術參數(shù) |
| 可任選離子濺射模式，碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，碳棒(熱阻)蒸發(fā)模式，電子束蒸發(fā)模式，雙濺射模式，濺射-碳絲模式，濺射-碳棒模式，濺射-電子束模式，雙電子束模式，可兼容EM VCT500冷凍傳輸系統(tǒng)，可選輝光放電(用于網(wǎng)格表面親水化) |
| 設計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可精確控制碳膜厚度 |
| 內(nèi)置石英膜厚檢測器，精確控制鍍膜厚度，精度達0.1 nm |
| 全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程 |
| 觸摸屏控制，簡單方便 |
| 采用隔膜泵+渦輪分子泵，無油真空系統(tǒng)，真空度2 X 10-6 mbar |
| 濺射電流: 0-150 mA可調(diào) |
| 方形樣品倉設計，樣品倉尺寸: 200mm (寬) X 150mm (深) X 195mm (高) |
| 樣品臺內(nèi)置旋轉，工作距離調(diào)節(jié)范圍: 30mm-100mm |
