公司介紹
德國HP Spectroscopy公司成立于2012年，致力于為科研及工業領域的客戶定制解決方案，是科學儀器的供應商和開發商。產品線包括XAS系統，XUV/VUV/X-ray光譜儀，beamline產品等。主要團隊由x射線、光譜、光柵設計、等離子體物理、beamline等領域的專家組成。并與的研究機構的科學家維持緊密合作，關注前沿技術，保持產品的迭代與創新。
產品簡介
攝譜儀和單色儀功能
具有效率的光柵
波長范圍為1 ~ 200nm
高精度波長設置
緊湊、模塊化設計
得益于其無縫設計，maxLIGHT pro可提供同品類光譜儀中的集光量和的效率。經像差校正的平場波長范圍可覆蓋1nm至200nm的寬光譜帶寬，比如，單個光柵可覆蓋5-80nm。
其模塊化設計能夠匹配不同的實驗配置。它具有集成的狹縫支架和濾光片插入單元，以及電動光柵定位。
靈活完善的探測器配置選項
nXUV CCD——高分辨高動態范圍應用
MCP/CMOS——寬光譜范圍、門控或像增強探測需求可根據用戶要求進行定制
無縫設計
HPS公司專有的光譜儀設計使用光源直接成像技術。 因此，不需要狹窄的入口狹縫，并且可以地收集入射光。 與傳統的光譜儀架構相比，到達探測器的光強會高出20倍。 該結構還極大地提高了日常操作的穩定性。
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測量結果
 | 在使用阿秒XUV脈沖的符合光譜應用中，通過maxLIGHT XUV（左圖）對HHG進行表征。 高次諧波源自單光子躍遷（藍色箭頭），而XUV和IR光的雙光子躍遷則呈現為光電子譜的邊帶（右圖）。 J. Vos et al, Orientation-dependent stereo Wigner time delay ａnd electron localization in a small molecule Science 360 1326-1330 (2018) |
 | 通過maxLIGHT XUV測量的HHG光譜（右圖）和25fs基頻光脈沖在kagomé光子晶體光纖中寬化的光譜（左圖）。隨著泵浦能量的增加，孤子藍移對HHG的影響清晰可見。 F. Tani et al, Continuously wavelength-tunable high harmonic generation via soliton dynamics Opt. Lett. 42 1768-1771 (2017) |
 | 在相同的信號強度下，與標準光譜儀（虛線）相比，maxLIGHT pro光譜儀（實線）的分辨率明顯更高。要獲得等價的光譜分辨率，傳統光譜儀技術需要設置窄狹縫，從而顯著降低信號強度。 C. Hauri et al, High-Harmonic Radiation for seeding the Swiss Free Electron Laser |
 | 用maxLIGHT XUV獲得的150kHz重頻下截止區域內的HHG光譜。CEP的變化顯示出在某些CEP設置下強度調制開始消失，表明了獨立阿秒脈沖的存在。 M. Krebs et al, Towards isolated attosecond pulses at megahertz repetition rates Nature Photonics 7 555–559 (2013) |
 | 參考光譜示例證明了maxLIGHT光譜儀的分辨能力。如圖所示為飛秒激光脈沖和固體靶相互作用后，經濾光片過濾后的高次諧波譜。諧波產生過程中所固有的精細結構譜可以被maxLIGHT光譜儀清晰地分辨出來。圖片上半部分：由 X 射線 CCD 相機記錄的原始圖像。 圖片下半部分：通過列合并獲得的諧波譜。 L. Waldecker et al, Focusing of high order harmonics from solid density plasmas Plasma Phys. Control. Fusion 53 124021 (2011) |
技術參數
Topology類型 | 像差校正平場光譜儀和光束分析儀 | ||
波長范圍 | 1-200nm | ||
光源距離 | 可根據用戶實際光路靈活調整 | ||
探測器類型 | CCD or MCP/CMOS | ||
真空兼容度 | <10-6mbar(UHV超高真空版可定制) | ||
無狹縫技術 | 含 | ||
入射狹縫 | 可調 | ||
光柵定位 | 閉環電控臺 | ||
濾光片插入裝置 | 含 | ||
控制接口 | USB 或 Ethernet | ||
軟件 | Windows UI and Labview/VB/C/C++ SDK | ||
定制化 | 可根據需求定制 | ||
可選項 | 非磁性，旋轉幾何，偏振測量等 | ||
SXR | XUV | VUV | |
波長范圍 | 1-20nm | 5-80nm | 40-200nm |
色散能力 | 0.2-0.4nm/mm | 0.5-1.3nm/mm | 0.9-1.6nm/mm |
分辨率 | <0.015nm at 10nm | <0.028nm at 40nm | <0.05nm at 120nm |
應用
高次諧波發生源
阿秒科學
激光與物質強烈的相互作用
自由電子激光
激光和放電產生的等離子體源
x射線激光
激光驅動二次源
