臺式薄膜沉積系統為是模塊化的PVD系統,為您的研究和實施應用提供了多種沉積選項。可裝配電子束蒸發源E-beam,ORCA低溫蒸發源,熱蒸發源,磁控濺射等。
臺式薄膜沉積系統是研究和開發的理想選擇，因為它具有模塊化的特性。所有基本元件都可以訪問，允許對各種組件進行測試，并對幾種薄膜沉積技術中涉及的工藝進行探索，包括：表面分析樣品制備，濺射，熱蒸發，有機物理氣相沉積等
基本型號中支持的方法包括：金屬和光刻膠剝離工藝，EM樣品制備，新型涂料研發，磁控濺射沉積優化
用戶可購買基本型號，在必要時升級到更高級別的組件，這些升級是模塊化的，安裝簡單，減少了系統停機時間和安裝成本。
臺式薄膜沉積系統配有一個80升/秒的泵，可實現高達8×10^-7毫巴的基本真空，并可實現高至100毫米的樣品尺寸。該系統還配有一個多樣品支架，可同時容納幾個較小的樣品。
臺式薄膜沉積系統可升級300升/秒的泵，可實現4×10^-7毫巴的基本真空。用戶也可以選擇一個較大的HEX-L室，其空間可容納多達150毫米的樣本，或多個較小的樣本。
臺式薄膜沉積系統由一個六面鋁框架高真空室組成，該室重量輕，但足夠堅固，適用于大多數物理氣相沉積應用。六邊形結構支撐六塊模塊化面板，包括：
空白面板，“視口”面板，沉積源面板，PLD儀表過程控制面板，包括質量流量控制器和厚度控制，用于現場監測的QCM面板
該設計使用標準化配件，包括用于氣體和水連接的Hamlet快速接頭，以及用于樣品臺和部件附件的蝶形螺母。這種標準化使切換面板和根據特定應用調整系統變得簡單。模塊化設計還使維護和重新配置更快、更高效。
臺式薄膜沉積系統是研究和開發的理想選擇，因為它具有模塊化的特性。所有基本元件都可以訪問，允許對各種組件進行測試，并對幾種薄膜沉積技術中涉及的工藝進行探索，包括：表面分析樣品制備，濺射，熱蒸發，有機物理氣相沉積等
基本型號中支持的方法包括：金屬和光刻膠剝離工藝，EM樣品制備，新型涂料研發，磁控濺射沉積優化
用戶可購買基本型號，在必要時升級到更高級別的組件，這些升級是模塊化的，安裝簡單，減少了系統停機時間和安裝成本。
臺式薄膜沉積系統配有一個80升/秒的泵，可實現高達8×10^-7毫巴的基本真空，并可實現高至100毫米的樣品尺寸。該系統還配有一個多樣品支架，可同時容納幾個較小的樣品。
臺式薄膜沉積系統可升級300升/秒的泵，可實現4×10^-7毫巴的基本真空。用戶也可以選擇一個較大的HEX-L室，其空間可容納多達150毫米的樣本，或多個較小的樣本。
臺式薄膜沉積系統由一個六面鋁框架高真空室組成，該室重量輕，但足夠堅固，適用于大多數物理氣相沉積應用。六邊形結構支撐六塊模塊化面板，包括：
空白面板，“視口”面板，沉積源面板，PLD儀表過程控制面板，包括質量流量控制器和厚度控制，用于現場監測的QCM面板
該設計使用標準化配件，包括用于氣體和水連接的Hamlet快速接頭，以及用于樣品臺和部件附件的蝶形螺母。這種標準化使切換面板和根據特定應用調整系統變得簡單。模塊化設計還使維護和重新配置更快、更高效。
