NE-Q05型等離子體表面處理儀是由反應腔、真空系統、流量控制系統、真空測量系統、電源系統和控制系統組成。
反應腔由真空室、高頻電極組成，是等離子體反應空間，待處理物品置于反應腔內；真空系統由真空泵以及真空管路組成，負責將反應腔體內的空氣抽凈并在工作時維持適當的真空度；流量控制系統主要由質量流量計和電磁閥們組成，其作用是要精確控制反應氣體的進氣流量，并維持工作期間所要的真空度；真空測量系統由真空測量和真空度顯示儀組成，用于檢測背底真空度和工作真空的數值；電源系統為反應腔提供高頻信號和能量，以激發反應腔體內的反應氣體電離形成所需要的等離子體；控制系統的作用是按照的工藝參數和步驟控制設備的動作過程，并維持工藝參數的穩定。設備采用觸摸屏+PLC可編程控制器，處理參數可以在觸摸屏上任意設定，具有手動/自動切換功能。自動操作采用“一鍵式”,工作過程由計算機自動控制完成。手動操作有用戶在手動實驗界面上自行完成。
低溫等離子體表面處理儀產品參數：
| 型號 | NE-Q05低溫等離子體表面處理儀 |
| 腔體材質 | 石英玻璃 |
| 供電電源 | AC220V |
| 工作電流 | 整機工作電流不大于1.2A(不含真空泵) |
| 射頻電源功率 | 0-200W |
| 射頻頻率 | 13.56MHz（偏移量小于0.2KHz） |
| 真空度 | 1pa-30Pa |
| 工藝氣體通道 | 標配兩路（可加多路）可自由搭配工藝氣體（氧氣、氬氣等） |
| 內腔尺寸 | 直徑150mm×270mm |
| 外形尺寸 | 650mmx550x600mm |
低溫等離子體表面處理儀應用領域：
（1）光學器件、電子元件、半導體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。
（2）清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
（3）移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質，去除金屬材料表面的氧化物。
（4）清洗半導體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。
（5）清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。
（6）高分子材料表面的修飾。
（7）封裝領域中的清洗和改性，增強其粘附性，適用于直接封裝及粘和。
（8）改善粘接光學元件、光纖、生物醫學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
（9）涂覆鍍膜領域中對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增強表面粘附性、浸潤性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質量。
（10）牙科領域中對鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預處理，增強其浸潤性和相容性。
（11）科研領域中修復學上移植物和生物材料表面的預處理，增強其浸潤性、粘附性和相容性。對科研的消毒和殺菌。
低溫等離子體的特點是電子和離子都處于平衡態，電子的溫度可以很高，但離子、分子還有原子等重粒子溫度卻很低。電子的高能量能夠使物體的分子激發、離化及分解，還能使反應容器內保持低溫甚至室溫。低溫等離子體中高能粒子的能量大于聚合物材料分子的結合鍵能，可以使有機大分子鏈發生斷裂、重組，得到改性。經過低溫等離子體表面處理儀處理的材料表面發生多種化學和物理變化，例如產生刻蝕，產生致密的交聯層以及引入極性基團，使材料的親水性、染色性、粘結性、生物相容性等得到改善。
