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晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片，其形狀為圓形；晶圓高溫測試是集成電路行業(yè)一道重要制程，通過嚴(yán)格的高溫測試可以預(yù)先剔除不良芯片，降低后續(xù)高昂的封裝成本。WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置是一種特殊設(shè)計(jì)的均勻加熱裝置。為保證晶圓高溫測試精度，要求整個(gè)吸盤表面各點(diǎn)的溫度控制在設(shè)定溫度#177;1℃的范圍內(nèi)，可以達(dá)到#177;0.03℃，是目前研究晶圓半導(dǎo)體重要輔助工具。

WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置產(chǎn)品詳情

WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置的詳細(xì)資料：

WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置

關(guān)鍵詞：晶圓，均勻，6寸

晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片，其形狀為圓形；晶圓高溫測試是集成電路行業(yè)一道重要制程，通過嚴(yán)格的高溫測試可以預(yù)先剔除不良芯片，降低后續(xù)高昂的封裝成本。WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置是一種特殊設(shè)計(jì)的均勻加熱裝置。為保證晶圓高溫測試精度，要求整個(gè)吸盤表面各點(diǎn)的溫度控制在設(shè)定溫度±1℃的范圍內(nèi)，可以達(dá)到±0.03℃，是目前研究晶圓半導(dǎo)體重要輔助工具。

主要技術(shù)參數(shù);

1、溫度：室溫-200℃，650℃，1000℃，

2、加熱速率：40℃/min,

3、加熱臺(tái)尺寸：6寸，8寸，12寸等可以定制

4、控溫精度：±1 ℃

5、加熱溫度均勻度允許誤差：±1℃

6、加熱臺(tái)需可抗壓：100KN

7、可配合各種電學(xué)測試設(shè)備進(jìn)行電學(xué)數(shù)據(jù)功能采集

8、表面處理：鍍膜，鍍金或是黑礬石

9、熱臺(tái)材質(zhì)：不銹鋼或銅

10、可以配合各種電學(xué)測試系統(tǒng)及探針測試

6寸晶圓在不同溫度下均勻性

熱門產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱	參考價(jià)	地區(qū)	公司名稱	更新時(shí)間
JZKC-JMZK05A精密阻抗分析儀-電子/半導(dǎo)體檢測儀器	面議	北京市	北京精科智創(chuàng)科技發(fā)展有限公司	2019-10-11	在線詢價(jià)
PL系列脈沖電流源原理-電子/半導(dǎo)體檢測儀器	面議	武漢市	武漢普賽斯儀表有限公司	2024-01-01	在線詢價(jià)
出租租賃電線電纜電阻測試儀-電子/半導(dǎo)體檢測儀器	面議	北京市	北京北信創(chuàng)展自動(dòng)化技術(shù)有限公司	2017-04-11	在線詢價(jià)
AE1/RD1輻射率儀-電子/半導(dǎo)體檢測儀器	面議	上海市	上海勞瑞儀器設(shè)備有限公司	2021-01-06	在線詢價(jià)
脈沖電流源 TSV芯片-電子/半導(dǎo)體檢測儀器	面議	武漢市	武漢普賽斯儀表有限公司	2024-01-01	在線詢價(jià)
PL系列激光脈沖電流源-電子/半導(dǎo)體檢測儀器	面議	武漢市	武漢普賽斯儀表有限公司	2024-01-01	在線詢價(jià)

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