關(guān)鍵詞：金屬薄膜，氮化鋁、壓電薄膜、AlN、Si3N4薄膜、MEMS

              TiN薄膜，抗腐蝕硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體薄膜，氧化物絕緣層

型號(hào)：MP450S，  產(chǎn)地：歐洲 ， 應(yīng)用：沉積硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體膜，氧化物絕緣層等。

反應(yīng)磁控濺射鍍膜儀是微米納米器件制備的設(shè)備，可用于制備普通金屬薄膜，氮化鋁(AlN)壓電薄膜，Si3N4薄膜，TiN薄膜，抗腐蝕硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體薄膜，氧化物絕緣層等，適用于半導(dǎo)體，光電子學(xué)，光子學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）和微流體技術(shù)等領(lǐng)域。

MP450S 配置 如下：

腔體尺寸：內(nèi)徑450mm、高度400mm，電解拋光不銹鋼腔體

真空系統(tǒng)：采用1000l/s分子泵（可選擇低溫泵）+30m3/h機(jī)械泵

                  配備薄膜真空計(jì)、潘寧真空計(jì)

磁控陰極：2個(gè)3英寸DC/RF磁控陰極，可傾斜35°

                  與樣品臺(tái)的距離手動(dòng)可調(diào)（8-13cm）

                  每個(gè)陰極配備一個(gè) 圓柱形擋板，防止污染

                  每個(gè)陰極配備一個(gè)電氣閥

陰極電源：一個(gè)500W,800V，0.9A， 13.56MHz射頻電源（可以升級(jí)到2kW）

                 允許共濺射或順序?yàn)R射

反應(yīng)氣路：3條氣路（Ar、N2,、O2），每個(gè)氣路配備MFC

                                   采用主腔體粗抽泵抽真空

                                   配帶皮拉尼真空計(jì)

控制系統(tǒng)：全自動(dòng)控制，半自動(dòng)和手動(dòng)模式可用

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