輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結構的強有力手段，可以通過元素變化獲得鍍層結構、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息，從而改善工藝條件等。主要應用行業有金屬冶金、半導體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽、光學玻璃、核材料等。
GD-Profiler 2 作為快鍍層分析的理想工具，適合于導體和非導體復合鍍層的分析，操作簡單、便于維護，是鍍層材料研發、質控的理想工具。
? 使用脈沖式射頻輝光源，可有效分析熱導性能差以及熱敏感的樣品。? 采用高動態檢測器（HDD），可測試ppm-99%的濃度范圍，Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。
? 分析速度快（2-10nm/s）
技術參數：
1、射頻發生器-標準配置、復合D級標準、穩定性高、濺射束斑為平坦、等離子體穩定時間短，表面信息無任何失真。2、脈沖工作模式既可以分析常規的涂/鍍層和薄膜，也可以很好地分析熱導性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。
3、Polyscan多道（同時）光譜儀可全譜覆蓋，光譜范圍從110nm-800nm，可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。
4、離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有大的光通量，因而擁有光效率和靈敏度。
5、高動態檢測器（HDD）可快速、高靈敏的檢測ppm-99%含量的元素。動態范圍為5×1010。
6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。
7、功能強的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。
8、單色儀（選配）可提高儀器靈活性，可實現固定通道外任意一個元素的同步測試，稱為n+1。
9、適用于ISO14707和16962標準。
儀器原理：
輝光放電腔室內充滿低壓氬氣，當施加在放電兩的電壓達到一定值，超過激發氬氣所需的能量即可形成輝光放電，放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場的作用下，正電荷離子加速轟擊到（陰）樣品表面，產生陰濺射。在放電區域內，濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發光。
