GD-Profiler 2是一款可進行超快鍍層分析的理想工具，非常適合于導體（和/或）非導體復合鍍層的分析。可分析70多種元素，其中包括C、H、O、N和Cl。一次測試可輕松獲取鍍層元素深度分布、鍍層厚度、鍍層均一性及表面/界面等信息。
GD-Profiler 2可分析幾納米到200微米的深度，深度分辨率小于1納米。GD-Profiler 2采用了脈沖式射頻輝光源，可有效分析熱導性能差以及熱敏感的樣品。此外，還采用了多項技術，如高動態檢測器（HDD）可測試ppm-的濃度范圍，Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。主要應用領域包括鍍鋅鋼板、彩涂板、新型半導體材料、LED晶片、硬盤、有機鍍層、鋰電池、玻璃、陶瓷等等。
技術參數
1、射頻發生器-標準配置、復合D級標準、穩定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩定時間極短，表面信息無任何失真。
2、脈沖工作模式既可以分析常規的涂/鍍層和薄膜，也可以很好地分析熱導性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。
3、Polyscan多道（同時）光譜儀可全譜覆蓋，光譜范圍從110nm-800nm，可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。
4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有光通量，因而擁有快速的光效率和靈敏度。
5、高動態檢測器（HDD）可快速、高靈敏的檢測ppm-含量的元素。動態范圍為5×1010。
6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。
7、Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。
8、HORIBA的單色儀（選配）可*地提高儀器靈活性，可實現固定通道外任意一個元素的同步測試，稱為n+1。
9、適用于ISO14707和16962標準。
