脈沖射頻輝光放電光譜儀—可超快速進行薄/厚膜的深度剖析
在過去的15年中，HORIBA Scientific不斷與*的等離子體鍍層研究組織進行跨領(lǐng)域合作，使得HORIBA Scientific的輝光放電光譜儀性能得到了大幅度提升。如今，輝光放電技術(shù)已能夠很好地用于表征描述材料的特性，同時行業(yè)也建立了相應(yīng)的ISO標準。
HORIBA Scientific研發(fā)的脈沖射頻輝光放電光譜儀可以用于薄/厚膜中的深度剖析：元素的濃度、變化趨勢以及鍍層厚度，它的測量深度可以從表面幾納米達到150微米以上。同時，脈沖射頻輝光放電光譜儀還具備很好的深度分辨率，可達1nm以下。這使得大家在進行薄膜分析時，可以很清晰地看到每一層元素的變化及界面的信息。這將有助于我們獲取更多樣品信息，從而改進生產(chǎn)工藝、提高產(chǎn)品質(zhì)量等。
如今，脈沖射頻輝光放電光譜儀已被廣泛應(yīng)用于各個研發(fā)、分析及生產(chǎn)領(lǐng)域，如納米尺度及納米尺度以上鍍層的新材料發(fā)展、涂漆車體上腐蝕的起源研究、稀有金屬的成分評估、工業(yè)上監(jiān)控光伏器件的生產(chǎn)、硬盤或LED的生產(chǎn)控制以及鋰電池改進等。
