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產(chǎn)地	進(jìn)口	加工定制	否	刻蝕機(jī)	NE-550EX

用于研究開發(fā)的高密度等離子蝕刻裝置NE-550 EX，以有磁場ICP（ISM＝Inductivery Super Magnetron）方式的高密度等離子蝕刻裝置，采用單葉式的標(biāo)準(zhǔn)裝備了LL室，實(shí)現(xiàn)了緊湊、低價(jià)格。

刻蝕機(jī)NE-550EX 電子/半導(dǎo)體檢測儀器產(chǎn)品詳情

特長

·通過磁場輔助，可以產(chǎn)生比其他ICP方式低壓力、低電子溫度、高密度等離子體，從離子性蝕刻到自由基性蝕刻，可以進(jìn)行寬范圍的等離子體控制，因此可以對應(yīng)于作為開發(fā)tool的多用過程。

·搭載了防止RF投入窗的沉積物附著的“Star電極”。另外，具有加熱功能，重視再現(xiàn)性和穩(wěn)定性的裝置概念。

·實(shí)現(xiàn)作為高可靠性輸送機(jī)器人、裝置構(gòu)造簡單、維護(hù)簡單等研究開發(fā)Tool的可靠性。

·還可以追加豐富的可選功能和暗盒室。

·面向批量生產(chǎn)線，推出了由同一個(gè)Chamber構(gòu)成的支持多個(gè)Chamber的NE-5700、NE-7700。

用途

·化合物材料（LED、LD、高頻器件和功率器件）。

·電極加工、金屬布線、有機(jī)膜、陶瓷等加工。

·用于加工鐵電體、貴金屬、磁性膜等難蝕刻材料。

·納米壓印、NEMS、MEMS、各種傳感器。

·生物芯片、微流體裝置、光子晶體等。

關(guān)鍵詞：傳感器

熱門產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱	參考價(jià)	地區(qū)	公司名稱	更新時(shí)間
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