本裝置是為減反射光學(xué)薄膜的大批量生產(chǎn)而設(shè)計制作的光學(xué)鍍膜機。
采用了磁流體密封技術(shù)的中心旋轉(zhuǎn)式基板架，保證了薄膜產(chǎn)品的重復(fù)性與均勻性

優(yōu)化的排氣特性和升溫能力使鍍膜時間縮短

可以加裝用于對應(yīng)高精度AR鍍膜的多層膜用可靠的光控儀 (optional)

產(chǎn)品介紹

Gener-1800

· 反應(yīng)性等離子源鍍膜機

· SDAR 系列

· 器件

· 離子源

· 光學(xué)膜厚監(jiān)控儀

本裝置是為減反射光學(xué)薄膜的大批量生產(chǎn)而設(shè)計制作的光學(xué)鍍膜機。

采用了磁流體密封技術(shù)的中心旋轉(zhuǎn)式基板架，保證了薄膜產(chǎn)品的重復(fù)性與均勻性

優(yōu)化的排氣特性和升溫能力使鍍膜時間縮短

可以加裝用于對應(yīng)高精度AR鍍膜的多層膜用可靠的光控儀 (optional)

規(guī)格

真空室 SUS304,Ф1800mm×2000mm(H)

基板架 4片式工作架（或Ф1200 mm）

基板架轉(zhuǎn)速 30rpm(可調(diào))

晶振式膜厚計 XTC/3+6點式水晶傳感器

蒸發(fā)源 電子槍1臺 　

性能

極限真空 7.0 × 10-5 Pa 以下

抽氣速度 10分（大氣壓～3.0×10-3Pa）

基板加熱溫度 350℃

安裝要求

安裝空間 約4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)

電力 3相，200V，50/60Hz，約80KVA

水流量 100升/分以上

壓縮空氣壓力 0.5-0.7MPa

重量 約5000kg

日本光馳OTFC-1300鍍膜機：主要用于量產(chǎn)高精度的帶通濾光片產(chǎn)品，包括生物醫(yī)療、熒光檢測及天文觀測用的濾光片，可以使產(chǎn)品的光學(xué)性能及穩(wěn)定性進一步得到保障，滿足生物療領(lǐng)域熒光濾光片對于高對比度、高信噪比、暗黑背景的要求。

OTFC-1300鍍膜機的基本配置是：搭載了10KV雙電子槍，750W的RF射頻離子源，光學(xué)膜厚監(jiān)控裝置（Optorun制，HOM2-R-VIS350A），低溫冷凝器（Polycold），油旋轉(zhuǎn)機械泵 （Edwards E2M275）羅茨機械泵（Edwards EH1200）；多點和環(huán)型坩堝可鍍200層以上，膜厚可達20000nm之多。這就意味著單片鍍膜就可以達到截止深度OD5以上，不用再為了達到高OD值而再做兩片膠合了。從而大大提升了濾光片的成像質(zhì)量以及產(chǎn)品合格率。

下面介紹其中兩個特點：

1.光學(xué)膜厚測量控制：

OTFC-1300鍍膜機是利用自動蒸鍍控制系統(tǒng)實現(xiàn)全自動蒸鍍過程，這就使生產(chǎn)效率得以顯著提高。光學(xué)膜厚監(jiān)控技術(shù)已經(jīng)成為當今光學(xué)薄膜成膜自動化的核心技術(shù)。可以對薄膜的厚度進行無損的、實時的測量，并在達到所需厚度時能及時給出控制信號。這就意味著鍍膜更精準，公差更小，可以做到±0.1nm。

2. RF射頻離子源：

（1）加工精度高，便于控制。離子束可以通過離子光學(xué)系統(tǒng)進行聚焦掃描，可以控制尺寸范圍。高離子電流密度和均勻分布，照射面積能達到Ф1150mm以上。

（2）同使用燈絲型的離子源比較，它的壽命長，污染少。

（3）加工應(yīng)力、變形極小。離子束加工工藝是一種原子級或分子級的微細加工，作為一種微觀作用，其宏觀壓力很小，適合于各種材料和低剛度工件的加工，而且加工表面質(zhì)量高。

（4） 動作安定性高，能長時間運轉(zhuǎn)。

3.鍍膜機明細參數(shù)：

真空室SUS304,Ф1300mm×1500mm(H)基板架4片式工作架（或Ф1200 mm）基板架轉(zhuǎn)速30rpm(可調(diào))晶振式膜厚計XTC/3+6點式水晶傳感器蒸發(fā)源電子槍1臺性能極限真空7.0×10-5Pa以下抽氣速度10分（大氣壓～3.0×10-3Pa）基板加熱溫度350℃安裝要求安裝空間約4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)電力3相，200V，50/60Hz，約80KVA水流量100升/分以上壓縮空氣壓力0.5-0.7MPa重量約5000kg

轉(zhuǎn)讓二手日本2350光弛鍍膜機

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