新型高真空退火爐
產品介紹
目前高溫退火爐加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實現溫度的高精度測量，加熱區域也存在不均勻的現象，華測儀器通過多年研究開發了一種可實現高精度，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。
它提高了加熱試驗能力.同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射退火爐節省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講，都節省時間并提高實驗速度。
同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統安全可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現全新的溫度控制操作！
反射爐溫度控制裝置
高速升溫時，配套的快速反應的新型高真空退火爐控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能設計，響應速度快。
為了高速加熱、設備采用PID溫度控制，同時采用移相觸發技術保證試驗溫度。
根據設備上的溫度控制器輸入參數，您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數據。
自適應熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型
可設定32個程序、256個步驟的程序。
30A、60A、120A內置了SCR電路，所以范圍很廣。
