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X 螢光射線膜厚分析儀是利用 XRF 原理來分析測量金屬厚度及物質成分，可用於材料的涂層 / 鍍層厚度、材料組成和貴金屬含量檢測。
應用在測量許多經典結構的鍍層厚度，包括鎳上鍍金（Au/Ni）,環氧樹脂鍍銅（Cu/epoxy），光致抗蝕劑photoresist，銅上鍍銀（Ag/Cu），科瓦鐵...
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