當(dāng)前位置：深圳市科銳詩汀科技有限公司>>公司動(dòng)態(tài)>>磁控濺射鐵磁性靶材增強(qiáng)磁控濺射陰極的磁場
增強(qiáng)濺射陰極磁場的另一種方法是采用高強(qiáng)磁體，通過強(qiáng)磁場飽和更厚的鐵磁性靶材得到靶材表面需要的濺射磁場強(qiáng)度。但是高強(qiáng)磁鐵的價(jià)格昂貴，同時(shí)采用這種方法增加靶材厚度的效果有限，而且由于強(qiáng)永磁體大小不能改變，這種方法會引起嚴(yán)重的等離子體磁聚現(xiàn)象。等離子體磁聚現(xiàn)象的產(chǎn)生使濺射區(qū)靶材很快消耗完而不能繼續(xù)濺射，從而造成靶材利用率很低。
采用電磁線圈來產(chǎn)生高強(qiáng)磁場，通過調(diào)節(jié)電磁線圈的電流控制磁場大小來抑制等離子體磁聚。但這種方法的磁場裝置復(fù)雜而且成本高，同時(shí)電磁線圈還受到濺射陰極尺寸的限制，從而使電磁場的強(qiáng)度受到限制，導(dǎo)致鐵磁性靶材的厚度增加有限。
還可以采用永磁體與電磁體復(fù)合的方法解決等離子體磁聚的問題，在不同的濺射過程中調(diào)節(jié)電磁線圈，以產(chǎn)生大小合適的電磁場。這種方法的缺點(diǎn)是電磁源裝置復(fù)雜，電磁線圈的使用也增加了設(shè)備成本和使用成本。
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