應用：手機外殼，MP3外殼，數碼相機外殼，表殼、表帶、眼睛架、健身球、首飾、燈具、餐具、工藝美術品上，工具、刀具、模具等

發展：多弧離子鍍膜始于上個世紀70年代，采用真空環境下引火器引燃弧光放電源（陰極）與真空室（陽極）之間形成自持弧光放電，使從陰極弧光輝點射出的陰極物質離子形成空間電荷層，產生強電場，使陰極表面上功函數小的開始發射電子；電流局部集中產生的焦耳熱使陰極材料局部地爆發性地等離子化，發射電子和離子，同時也放出熔融的陰極材料，在工件偏壓的作用下與反應器件化合而沉積在工件表面上，從而在工件上形成被鍍的膜。多孤離子鍍膜機離化率高沉積速度高，適用于鍍制裝飾膜和超硬耐磨膜。多弧離子鍍膜機的基礎上配置圓柱靶或平面磁控靶，結合磁控濺射低溫、穩定的優點，適合鍍單層膜和各種復合膜層。如：金色的氮化鈦，黑色的碳化鈦，七彩的氮氧化鈦等，亦可鍍防腐蝕膜（如：AL、Cr不銹鋼及TiN 等）。

配置和技術參數：

▲真空室箱體：304不銹鋼1600*1800mm，并可以根據客戶具體要求設計非標產品

　▲夾具方式：6軸公自轉行星式齒輪結構，工件速度在1-30轉/分鐘可調。

　▲控制氣體方式：采用質量流量計控制，進氣穩定，反映速度快。

　▲多弧靶:15套三組多弧蒸發源，從上到下五個弧源一組，真空室體兩側個一組，門上一組

▲磁控濺射陰極：圓柱靶磁控濺射陰極一套，Ф80X1600；嚴格縝密的磁場設計和磁場布局，刻蝕均勻。

　▲抽真空參數：從大氣抽至5*10‾³Pa≤15min 極限真空度8*10‾4Pa

　▲抽氣系統：采用國產品牌機械泵、羅茨泵、擴散泵，根據其真空室大小確定合理型號。也可以根據客戶的需要配備分子泵或者進口泵等。

　▲電源：逆變電弧電源，磁控濺射可配置20KW中頻電源或直流脈沖電源

▲PLC控制系統：有手動和自動，全系統具有互保護, 泵閥互鎖

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磁控多弧離子鍍膜機應用

磁控多弧離子鍍膜機應用

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