BHF濃度計監測儀 CS-137

BHF濃度計監測儀 CS-137高精度化學藥液濃度計專為半導體制造時清洗制程中所使用的BHF溶液而設計。實現了過去所沒有的高速響應性和小巧化，可用于監測硅氧化膜的蝕刻以及晶片表面的微粒清除作業時所使用的BHF溶液(NH4F/HF/H2O)中的各成分濃度。依據濃度計的輸出而進行的反饋控制，可以確保BHF溶液的濃度保持在允許范圍內，同時，還可以避免不必要的藥液更換工作。

特征

• 監測周期大約為3秒，支持300mm工藝的濃度管理。

實現了以大約3秒這樣短的測量周期，大幅提高了濃度的實時跟蹤性。支持向批次式和單槽式清洗裝置定時反饋濃度信息。

• 小巧設計有利于清洗裝置節省空間

底面面積只有原先的2/3(*)左右，這樣的小巧化設計有利于清洗裝置節省空間。可以很容易地組裝到清洗裝置中。
*與本公司產品CS-327比較

• 通過減少清洗工藝中的批次不良，提高產量

通過濃度計的信號輸出，進行BHF溶液的補給控制，從而實現高再現性的清洗。減少清洗工藝中的批次不良，從而推進產量的全面提高。

• 全自動監測與簡易控制

用戶只需引入BHF溶液即可。監測是全自動方式，因此開始監測后不需要進行任何控制。另外由于參照光譜測量時使用的是空氣，也可以測量水的濃度，從而可以跟蹤水因溶液蒸發和附著到晶圓而應起的濃度變化。這樣有利于二氧化硅的調整控制。