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管狀爐式高溫熱CVD裝置SFCV-1001佐藤真空
管狀爐式高溫熱CVD裝置SFCV-1001佐藤真空
真空蒸鍍裝置
本系列產品是用于研發和小批量生產的電阻加熱式小型蒸鍍設備。另外，本系列的一部分機種也可以搭載電子束(EB)。
HSV-3-30G，HSV-8-50，HSV-12-80
是一種管狀爐式高溫熱CVD裝置，適用于大學和研究機構開發石墨烯等碳氫化合物的各種材料。小批量、小尺寸的測試件可以簡單操作，實現了小型化，同時大幅降低了成本。
另外，具有以往小型產品難以實現的5 ~ 100pa壓力控制功能，可支持更多樣的處理模式。針對碳氫化合物類可燃性氣體，配備了檢測報警停止機器運行、大氣排放氣體稀釋單元等安全裝置。
SFCV-1001，SFCV-1003，SFCV-1501
研究開發用卷爐是適合于研究開發，小批量生產的小型高性能卷模機。有等離子處理、濺射及蒸鍍單元。
高真空排氣裝置
本系統有渦輪分子泵和油擴散泵兩種類型，還準備了油旋轉和干泵作為輔助泵，是一種能夠根據客戶的需求進行選擇高真空排氣系統。
TPS-50ZA,TPS-50ZB,TS-50ZC,TPS-220ZA,TPA-220ZB,TPS-220ZC,DPS-2-ZA,DPS-2-ZB,DPS-3-ZA,DPS-3-ZB,DPS-4-ZA,DPS-4-ZB
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