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低溫恒溫槽 應用范圍：

對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。

其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。

分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻：電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調(diào)幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用優(yōu)質(zhì)的純凈水在機內(nèi)外循環(huán)冷卻，可保證對水質(zhì)要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。

低溫恒溫槽 特點：

●全封閉壓縮機組制冷,制冷系統(tǒng)具有過熱、過電流多重保護裝置。

●循環(huán)泵可以把槽內(nèi)被恒溫液體外引,建立第二恒溫場。

●槽內(nèi)冷液可外引,冷卻機外實驗容器,也可在槽內(nèi)直接進行低溫、恒溫實驗

●采用XMT模擬數(shù)字PID自動控制系統(tǒng)，溫度數(shù)字顯示。

●內(nèi)膽、臺面均為全不銹鋼，清潔衛(wèi)生，美觀耐腐蝕。

●DCW系列為臥式,便于置于操作臺內(nèi)。

低溫恒溫槽 應用：

低溫水槽廣泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門，高等院校，企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門，為用戶工作時提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品進行恒定溫度試驗或測試，也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。

型號	溫度范圍 ℃	溫度波動度 ℃	工作槽容積 mm	工作槽開口 mm	槽深度 mm	循環(huán)泵流量 L/min
DKB-6	-5～100	±0.05	250×200×150	180×140	150	5
DKB-1015	-5～100	±0.05	280×250×220	235×160	220	5
DKB-1020	-5～100	±0.05	280×250×280	235×160	280	5
DKB-1030	-5～80	±0.05	400×325×230	310×280	230	13
DKB-1006	-10～100	±0.05	250×200×150	180×140	150	5
DKB-2006	-20～100	±0.05	250×200×150	180×140	150	5
DKB-2015	-20～100	±0.05	300×250×200	235×160	200	5
DKB-2030	-20～80	±0.05	400×325×230	310×280	230	13
DKB-3005A	-30～100	±0.1	250×200×120	180×140	120	5
DKB-3010	-30～100	±0.1	250×200×200	180×150	200	5
DKB-3015	-30～100	±0.1	300×250×200	235×160	200	5
DKB-3030	-30～80	±0.1	400×325×230	310×280	230	13
DKB-4006	-40～100	±0.1	250×200×120	180×140	120	5
DKB-4506S	-45～100	±0.1	270×170×120	150×150	120	5
DKB-4010A	-40～40	±0.1	310×200×150	180×180	150