生長大面積光學窗口（紅外窗口、激光輸出窗口）、探測窗口、微波窗口等
品特點概述
適用范圍：生長大面積金剛石薄膜(4-10英寸，甚至更大)
生長速度：可高達幾?m-幾十?m/h，甚至更高；
生長范圍：可在直徑100mm范圍內生長、或者在直徑300mm范圍內生長。
研究及小規模生產型：
微波功率：2.45GHz，6KW, 脈沖模式可選 （提高沉積速度和質量）；
樣品臺：直徑75-100mm,旋轉襯底可選（提高大面積均勻性）;
真空系統：oil pump/dry pump，TMP可選（營造高真空基準）；
控制方式：半自動或全自動（操作靈活）；
生長速率：高達30μm/h.
整體特點：專門生長大面積熱沉級、光學級多晶薄膜配置，適合于研發、小規模生產。
大面積光學級金剛石厚膜生產研究型：
微波功率：915MHz，30KW；
水冷襯底：直徑250mm或更大; 襯底加熱和襯底旋轉可選.
4個4英寸襯底, 加熱和旋轉襯底可選
真空系統：oil pump / dry pump+TMP（營造高真空基準）；
控制系統：全自動控制（適合大批量生產）；
生長速率：高達30μm/h, 或更高速率
整體特點：專門大面積金剛石薄膜研究及生產配置；可獲得4-10英寸光學級金剛石厚膜，也可以用于研究合成曲面自支撐金剛石厚膜，請詳細咨詢！
