美國SVT公司PLD脈沖激光沉積系統
用于沉積金屬薄膜，氧化物薄膜，多元素材料薄膜的脈沖激光沉積系統，可以與多種薄膜制備設備連用。憑借多年的科研與實踐經驗，我公司為許多科研用戶獨立打造了PLD-MBE連用系統，PLD-UHV Suptter連用系統等。
美國SVT公司PLD脈沖激光沉積系統用于沉積金屬薄膜，氧化物薄膜，多元素材料薄膜的脈沖激光沉積系統，可以與多種薄膜制備設備連用。憑借多年的科研與實踐經驗，我公司為許多科研用戶獨立打造了PLD-MBE連用系統，PLD-UHV Suptter連用系統等。
應用：
ZnO材料功能薄膜
STO薄膜
金屬薄膜
超導薄膜
鐵電功能薄膜
功能陶瓷膜
技術參數：
超高真空E-10Torr
四／六靶靶臺 可公轉,自轉
溫度加熱臺到1000oC
靈活的泵組合
線形運動擋板
在線檢測系統（溫度,厚度）
配備高能量激光器
主要特點：
RF射頻等離子源（氧,氮）
升級高真空
增加進樣室
升級為Laser-MBE （L-MBE）系統
自動軟件控制
提供更潔凈的薄膜生長環境,*的溫度控制解決方案.
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