SIC高溫氧化爐-氧化擴散爐-科研氧化爐

SIC高溫氧化爐-氧化擴散爐-科研氧化爐

擴散爐系列設備用途：用于大規模集成電路、太陽能電池片、電力電子、光 電器件、光導纖維等行業的氧化、擴散、燒結、合金等工藝。 設備特點：單元組合方式。根據工藝的不同，可以在主機的基礎上配氣源柜、超凈工作臺、懸臂推拉舟等。

主要技術指標：

★ 爐管數： 1～4管

★ 配工藝管口徑：Φ90～360 mm (3～12英寸)

★ 恒溫區長度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃) 760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃)

★ 單點穩定性： ±1.0℃/24h (300～800℃) ±0.5℃/24h (800～1280℃)

★ 氣源路數： ≤7路，可配恒溫源瓶、氫氧合成點火器

★ 氣體控制： 浮子/質量流量計

★ 懸臂舟參數： 速度： 20～1000 mm/min 最 da行程：2000 mm 定位精度：±1 mm 最 da載荷：17 Kg

★ 超凈工作臺： 凈化等級：100級（萬級廠房）噪音： ≤62dB（A）振動： ≤3μm

◆閉管式擴散系統，有效降低生產成本，更潔凈、更環保

◆石英舟采用軟著陸送片，高可靠性

◆工業計算機控制系統，對爐溫、進退舟、氣體流量、閘門等動作進行自動控制

◆采用懸臂送片器，操作方便、無摩擦污染等

◆具有斷電報警、超溫報警、極限超溫報警等多種安全保護功能

◆控溫精度高，溫區控溫穩定性好

◆關鍵部件均采用進口，確保設備的高可靠性

◆高質量的加熱爐體，確保恒溫區的高穩定性及長壽命