碳化硅氧化爐 真空退火爐 高溫擴散爐

碳化硅氧化爐 真空退火爐 高溫擴散爐

  CL系列的擴散爐為我公司根據客戶需求定制的專用設備，用于太陽能電池片生產過程中對硅片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝，該設備具有：關鍵部件進口、自動化程度高、溫度均勻、控制穩定、壽命長等特點，是理想的科研及生產設備。

主要技術指標：

★可處理硅片尺寸：2—8英寸
★外型形式：臥式1—4管結構
★工作溫度：200℃—1300℃
★恒溫區長度及精度：200mm—1100mm≤±0.5℃
★單點溫度穩定性、重復性：≤±0.5℃／24h
★溫度斜變：可控升溫速率20℃／min，
★可控降溫速率：5℃／min
★送片裝置：全自動懸臂推拉舟、拉桿是推拉舟、手動推拉
★氣路系統：1—5路工藝氣體／管
★氣體控制：全自動MFC、手動浮子流量計
★控制方式：工控機、觸摸屏

青島晨立電子有限公司成立于2009年，是專業半導體工藝設備及xian進材料專用設備研發、生產、銷售廠家，是山東省半導體行業協會重點骨干企業，“專精特新”企業。為客戶提供xian進材料熱處理、高精度電加熱設備及系統集成等全套解決方案。

主要產品：高低溫擴散爐、實驗爐、共晶爐、燒結爐、加磁爐、高精度智能溫度控制系統和替代進口的擴散爐爐體等，同時承接各種微電子生產線，進口半導體專用設備的翻新升級改造及各大專院?？蒲性核姆菢搜邪l定制工作。