PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。
產品用途：
溫度范圍寬；濺射區域長；整管可調；精致小巧，性價比高，可實現快速升降溫，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
產品參數：
| 產品名稱 | 1200℃PECVD系統 | |
| 產品型號 | KJ-PECVD-1200-50*300-F3 | |
| 加熱系統 | 顯示 | LED |
| 溫度 | 1200℃ | |
| 長期工作溫度 | ≤1100℃ | |
| 升溫速率 | 0~15℃/min (max. 20℃/min) | |
| 溫區 | 300mm | |
| 加熱元件 | 鉬棒 | |
| 熱電偶 | K type | |
| 溫度均勻性 | ±1℃ | |
| 爐管尺寸 | 60 x 1200mm | |
| 材質：氧化鋁 | ||
| 溫度控制 | 通過可控硅功率控制進行PID自動控制 | |
| 加熱過程 | 30步可編程 | |
| 電壓 | 220V，50 Hz，單相 3KW | |
| 工作壓力 | 0.02MPa | |
| 真空系統 | 旋片泵 包括 KF25 適配器、真空泵組波紋管和帶輪子的移動柜。 | 冷態極限真空10Pa。 |
| 真空計 | Inficon 數顯真空計 | |
| 真空法蘭 | 帶閥門和針頭的不銹鋼真空法蘭 | |
| 質量流量計 | 流量范圍 | CO2（流量范圍：0-200 sccm CH4（流量范圍：0-200 sccm） N2 流量范圍（流量范圍：0-200 sccm） |
| 準確性 | ±1.5 % F.S. | |
| 重復精度 | ±1.5 % F.S. | |
| 響應時間 | ≦10sec | |
| 工作壓差范圍 | 0.1~0.5MPa | |
| 耐壓性 | 3MPa | |
| 溫度系數 | 零：≤±0.2% F.S./℃； 跨度：≤±0.2% F.S./℃ | |
| 工作環境溫度 | 5~45℃ | |
| 輸入信號 | 0 V ~ +5.00 V | |
| 輸出信號 | 0 V ~ +5.00 V | |
| 等離子射頻發生器 | 輸出功率：0 -300W可調，±1%穩定性 射頻頻率：13.56 MHz ±0.005% 穩定性 反射功率： 120W 電源穩定性指標：±0.1% 匹配：自動 噪音：<50 分貝。 整體效率：≧70% | |
1、我公司對所供設備提供質保一年保修服務（易損件除外），在保修期內因設備質量原因造成的設備損壞或故障，均予以免費維修。保修期滿后，仍提供終身的、優質的維修服務。
2、在設備使用過程中如遇故障的，我公司將盡快做出處理方案，確保設備正常運行。
3、我公司設提供免費的設備操作培訓和簡單故障排除維修培訓。
4、我公司技術人員可提供(產品安裝調試、整機維護、技術講解及操作指導等)。
5、本公司可提供運輸服務，包裝方式均按照標準安全包裝進行。隨機技術資料齊全（用戶手冊、保修手冊、有關資料及配件、隨機工具等）。
6、本公司所有產品均有歐盟CE質量認證。
