用途：
本設備是我公司研發用于真空蒸發鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜。特別適合于高科技企業、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發。
主要技術參數：
1. 真空室：300*300*H450mm；2. 可鍍工件直徑：φ100mm,配抽拉式樣品臺，樣品可旋轉；另配備銅基板樣品臺；
3. 極限真空度：優于6*10-5Pa;4. 抽氣時間：大氣壓~6*10-4Pa小于30min；5. 蒸發：電阻式蒸發電極（4對） 功率：2KW；配備2套數顯蒸發電源，其中一套電源可切換至2組電極。
6. 開啟方式：正面開門結構，便于換絲及裝料；7. 真空系統：機械泵+分子泵；
8. 膜厚儀：石英晶振膜厚儀膜厚儀 ，配水冷探頭一套；
9. 水冷系統：系統配備一套冷卻水循環系統。
設備結構介紹：
該設備由真空室、真空機組和電氣系統組成
- 真空室
方形腔體，側部抽氣，正面開門。不銹鋼材質，配φ100觀察窗（含防污擋板）、預抽接口、充氣接口；內部有底板、蒸發源（四組蒸發源相互隔離避免交叉污染），蒸發源上配有電動擋板裝置等；
- 真空系統及進氣
采用600L分子泵+8L旋片式機械泵。采用真空波紋管連接，配有復合式數顯真空測量儀表。
可根據需要選配流量計，用于進氣流量精確控制。
- 電氣系統
電氣系統包括真空機組控制、蒸發與烘烤控制、真空測量控制等部分組成。有安全互鎖機構，有效防止誤操作發生。系統配有2套蒸發電源，通過切換選擇上電。
- 膜厚測量裝置：采用石英晶振膜厚儀及水冷探頭一套。
蒸發示意圖：
氣路原理圖
水冷電極結構
