NIE-3500（A）全自動IBE離子束刻蝕產品概述：該系統為全自動上下載片，并且通過計算機全自動實現工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統，系統具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優勢。該系統所配套的所有核心組件均為。
該IBE離子束刻蝕系統具有很強的適應性，可根據不同的應用而按不同的配置進行建構。多樣的樣片夾具和離子源配置可支持用戶不同的應用。用于離子銑系統的樣片夾具可以支持±90°傾斜、旋轉、水冷和背氦冷卻。
我們的IBE離子束刻蝕系統可以把基片溫度保持在50°C以內的能力。通過傾斜和旋轉，可以刻蝕出帶斜坡的槽，并且改善了對側壁輪廓和徑向均勻度的控制。不同的選配項可以用于不同的網格配置以及中和器。濺射選配項可以支持對新刻蝕金屬表面的涂覆，以防氧化。此外，還可以選配單晶圓自動上下片功能。該系列IBM離子銑系統或IBE離子束刻蝕系統可以配置RF ICP離子源，升級為RIBE反應離子束刻蝕系統。
NIE-3500（A）全自動IBE離子束刻蝕產品特點：
低成本
帶預真空鎖，自動上下載片
離子束：高達2KV/10mA
離子電流密度100-360uA/cm2
離子束直徑：4",5",6"
兼容反應及非反應氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)
極限真空5x10-7Torr
260l/s渦輪分子泵，串接500 l/min干泵
14"不銹鋼或鋁質腔體
水冷旋轉/傾斜樣品臺(NIE-3500)
自動上下載片（NIE-3500）
基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
占地面積30"x30"
NIE-3500（A）全自動IBE離子束刻蝕設備應用：
表面處理
離子銑
表面清洗
帶活性氣體的離子束刻蝕： 光柵刻蝕，以及SiO2，Si和金屬的深槽刻蝕
