*的JSM-7610F的光學系統經過改進，實現了分辨率（15kV 0.8nm、1kV 1.0nm）的進一步提升，以嶄新的JSM-7610FPlus形象亮相。采用半浸沒式物鏡和High Power Optics照明系統，能提供穩定的高空間分辨率觀察和分析。
此外還具備利用GENTLEBEAMTM模式進行低加速電壓觀察、通過r-filter分選信號等滿足各種需求的高擴展性。主要特點如下：
◇ 半浸沒式物鏡
半浸沒式物鏡在樣品周圍形成強磁場，因而可以獲得超高分辨率。
◇ High Power Optics
High Power Optics 是*的電子光學系統，既實現了高倍率觀察又能進行多種分析。
浸沒式肖特基場發射電子槍，可以獲得10 倍于傳統肖特基場發射電子槍（FEG）的探針電流，光闌角控制鏡（ALC）在探針電流增大時也能保持小束斑，兩者組合起來能提供200 nA 以上的探針電流。強大的High Power Optics 系統，從高倍率圖像觀察到EDS分析和EBSD 解析可以一直使用高分辨率的最小物鏡光闌而不需要改換。
浸沒式肖特基場發射電子槍銃
浸沒式肖特基場發射電子槍通過和低像差聚光鏡組合，可以有效地收集從電子槍內發射的電子。
光闌角控制鏡（ACL）
光闌角控制鏡（ACL）配置在物鏡的上方，在整個探針電流范圍內自動優化物鏡光闌的角度。因此，即使照射樣品的探針電流很大，與傳統方式相比，也能獲得很小的電子束斑。
即使探針電流很大，束斑直徑也很小
長時間分析時穩定度也很高
◇ 柔和電子束（GB:GENTLEBEAMTM）模式
GB 模式的效果
GB 模式在低電壓下提高分辨率
左圖一般模式，右圖GB模式
增強了的低加速電壓下的分辨率
◇ r-過濾器
◇ LABE檢測器（選配件）
利用LABE 檢測器獲取低角度背散射電子像
◇ 擴展性
能譜儀（EDS）
波譜儀（WDS）
陰極熒光系統（CL）
技術參數
二次電子像分辨率 | 0.8 nm（加速電壓 15 kV），1.0 nm（加速電壓 1 kV ） | |||
倍率 | Direct magnification: x25 to 1,000,000（120 x 90 mm） | |||
加速電壓 | 0.1 ～ 30 kV | |||
探針電流 | 數 pA ～ 200 nA | |||
電子槍 | 浸沒式肖特基場發射電子槍 | |||
透鏡系統 | 聚光鏡（CL）、 光闌角控制鏡（ACL）、 半浸沒式物鏡（OL） | |||
樣品臺 | 全對中測角樣品臺、5軸馬達驅動 | |||
電子檢測器系列 | 高位檢測器、 r‐過濾器 內置、 低位檢測器 | |||
自動功能 | 自動聚焦、自動消象散、自動亮度/襯度調節 | |||
圖像觀察用 | 屏幕尺寸 23英寸寬屏 | |||
抽真空系統 | 電子槍室／中間室 SIP 離子泵 | |||
