摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：小功率等離子處理機(jī)可提高表面附著力，提高表面親水性，可聯(lián)機(jī)，與現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備聯(lián)機(jī)使用；功率調(diào)節(jié)采用面板旋鈕控制；可直接與非標(biāo)機(jī)自動(dòng)化設(shè)備配套操作控制；如有需要，請(qǐng)聯(lián)系上海軒儀

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：本文是低溫等離子表面處理機(jī)（大氣等離子清洗機(jī)）的各類(lèi)機(jī)型的匯總，主要介紹各種機(jī)型的實(shí)際應(yīng)用情況，對(duì)于各種形狀、材質(zhì)、處理需求、處理效率的產(chǎn)品，給出選型方案。如果需要更詳細(xì)的了解和選型，可聯(lián)系我司。

摘要 簡(jiǎn)要描述:真空等離子清洗機(jī)應(yīng)用PCB行業(yè):對(duì)材料表面的刻鐘作用--物理作用:等離子體中的大量離子

摘要 等離子表處理機(jī)采用低溫等離子技術(shù)進(jìn)行表面處理借助于等離子表面活化處理的技術(shù)實(shí)驗(yàn)室分析顯示

摘要等離子設(shè)備應(yīng)用行業(yè)：真空等離子清洗機(jī)應(yīng)用于3C（手機(jī)組裝粘接，攝像頭模組耳機(jī)中框粘接，提高表面附著力）；汽車(chē)制造（大燈，方向盤(pán)，密封條，擋風(fēng)玻璃ECU等提升附著力和密封性）；新能源（電池粘膠，封裝，藍(lán)膜粘接等）；半導(dǎo)體（芯片粘接前處理，引線框架的表面處理，半導(dǎo)體封裝等...

摘要等離子設(shè)備應(yīng)用行業(yè)： 旋轉(zhuǎn)式高分子材料等離子清洗機(jī)應(yīng)用于3C（手機(jī)組裝粘接，攝像頭模組耳機(jī)中框粘接，提高表面附著力）；汽車(chē)制造（大燈，方向盤(pán)，密封條，擋風(fēng)玻璃ECU等提升附著力和密封性）；新能源（電池粘膠，封裝，藍(lán)膜粘接等）；半導(dǎo)體（芯片粘接前處理，引線框架的表面處理...

摘要 鑫凈淼 紫外線殺菌消毒器750W 資質(zhì)齊全具有水流均勻、光射條件好、殺菌好、能耗低、安裝靈活方便等特點(diǎn)，主體材質(zhì)采用不銹鋼，無(wú)金屬離子侵染問(wèn)題，產(chǎn)品結(jié)構(gòu)為密閉容器石英套管式，內(nèi)設(shè)電氣控制裝置。

摘要離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應(yīng)用范圍廣。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項(xiàng)，包括直開(kāi)式、單襯底傳送模式和盒式對(duì)盒式模式。系統(tǒng)配置與實(shí)際應(yīng)用緊密協(xié)調(diào)，以確保獲得速率更快且重復(fù)性更好的工藝結(jié)果。 詢價(jià) 增加到詢價(jià)列表 在詢價(jià)...

摘要 一、等離子清洗機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域玻璃、觸摸屏材料科學(xué)印刷造紙油墨涂料醫(yī)學(xué)醫(yī)療、薄膜、高分子電子電路紡織纖維化學(xué)化工石油化工二、PCB板等離子清洗機(jī)可在線高速處理

摘要MKS-600系列大氣壓在線等離子表面活化系統(tǒng)功能特點(diǎn)1.清潔活化基材表面，提高基材表面達(dá)因系數(shù)，增強(qiáng)基材附著力，提升精密產(chǎn)品合格率，同時(shí)達(dá)到消除基材表面靜電功能。2.自動(dòng)調(diào)寬，處理范圍可設(shè)定，高度可設(shè)定，可過(guò)含夾具產(chǎn)品。3.表面處理過(guò)程中等離子體輸出溫度低，不傷基材...

摘要 作為在實(shí)驗(yàn)室中使用的等離子體研發(fā)平臺(tái)，我們努力嘗試為客戶解決一切可能在實(shí)驗(yàn)活動(dòng)中遇到的需求。“因?yàn)槭亲约貉邪l(fā)的，所以我們知道怎么改！”我們的總工這樣評(píng)價(jià)我們的研發(fā)能力。我們非常樂(lè)意傾聽(tīng)用戶需求，與用戶一起合作，制造出能夠幫助客戶解決問(wèn)題的設(shè)備。

摘要 甲岸Plasma真空等離子清洗機(jī)一般包括真空系統(tǒng),電源系統(tǒng),供氣系統(tǒng)和清洗室,清洗室內(nèi)安裝有電極架,可以將射頻電極,地極按照交替的方式組合放置,以適應(yīng)不同的清洗場(chǎng)合。甲岸等離子清洗機(jī)

摘要 甲岸Plasma真空等離子清洗機(jī)一般包括真空系統(tǒng),電源系統(tǒng),供氣系統(tǒng)和清洗室,清洗室內(nèi)安裝有電極架,可以將射頻電極,地極按照交替的方式組合放置,以適應(yīng)不同的清洗場(chǎng)合。甲岸等離子清洗機(jī)

摘要 矽碁還專(zhuān)為客戶定制過(guò)性價(jià)比的PECVD與RIE聯(lián)合系統(tǒng)，該聯(lián)合系統(tǒng)采用統(tǒng)一的真空氣路及電控系統(tǒng)，在實(shí)現(xiàn)多功能的前提下有效節(jié)省成本

摘要 反應(yīng)離子刻蝕(ReactiveIonEtching,RIE)是指在平板電極間施加射頻電壓，通過(guò)產(chǎn)生的等離子體對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)和物理刻蝕

摘要等離子清洗機(jī)VP-R5真空腔體石英材質(zhì)，頻率13.56MHz，能對(duì)材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運(yùn)行30分鐘，腔體溫度不高于32℃，不損傷樣品，適用于微流控芯片PDMS鍵合、ITO導(dǎo)電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLAS...

摘要真空等離子清洗機(jī)VP-R3真空腔體石英材質(zhì)，頻率13.56MHz，能對(duì)材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運(yùn)行30分鐘，腔體溫度不高于32℃，不損傷樣品，適用于微流控芯片PDMS鍵合、ITO導(dǎo)電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PL...

摘要NPC-3500（A）研發(fā)用等離子去膠機(jī)：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力...

摘要 NIE-3000離子束清洗系統(tǒng)：是一款手動(dòng)放片/取片，但工藝過(guò)程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑等。

摘要 NIE-3500（A）全自動(dòng)離子束清洗系統(tǒng)：是一款自動(dòng)放片/取片，并且工藝過(guò)程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。

摘要 LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的一體化系統(tǒng)，可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

摘要LSC-5000全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)為全自動(dòng)機(jī)械手上下載片，可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功...

摘要 SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助的光刻膠剝離。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

摘要 SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

摘要SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)配套機(jī)械手，也可以升級(jí)為多系統(tǒng)的集成架構(gòu)。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子...

摘要NPC-3000等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:...

摘要NPC-3500（A）全自動(dòng)等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具...

摘要NPC-4000（A）全自動(dòng)等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具...

摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 系列屬于寬束型離子源, 散射角度45.霍爾離子源氣體流量可選 2-25sccm/ 2-50sccm/ 2-50sccm/ 2-75sccm/ 5-100sccm 等不同級(jí)別.霍爾離子源電流可選 5A...

摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 3...

摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 屬于無(wú)柵網(wǎng)離子源. 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7 高= 5.5放電電壓 / ...

摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 10, 寬束柵網(wǎng)離子源,最小型號(hào)的離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應(yīng)用.離子束流: 10 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (...

摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 (柵網(wǎng)離子源) KDC40. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應(yīng)用.離子束流: 100 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (Typical fl...