一、應(yīng)用領(lǐng)域：
VCD高真空箱是一種先進(jìn)的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于航空、航天、軍事、電子、通訊、光電等科研及生產(chǎn)單位。這種設(shè)備在高真空環(huán)境下對半導(dǎo)體材料進(jìn)行淀積和蝕刻處理，為制造高質(zhì)量、高精度的半導(dǎo)體器件和集成電路提供了有力的支持。

VCD高真空箱主要由真空室、電子槍、樣品臺、氣體控制系統(tǒng)等組成，其核心技術(shù)在于能夠精準(zhǔn)控制真空室內(nèi)的氣壓、溫度和化學(xué)反應(yīng)條件。這種設(shè)備能夠達(dá)到非常低的真空度，例如133Pa以下，從而創(chuàng)造出的氣壓環(huán)境使得研究人員能夠進(jìn)行一些在大氣壓下無法進(jìn)行的實驗。
二、主要技術(shù)指標(biāo)：

規(guī)格型號： HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600

內(nèi)箱尺寸(mm)： 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600

外形尺寸(mm)： 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650

真空度范圍： 100000Pa～1Pa

控制方式： 真空計顯示或PLC觸摸屏控制

結(jié)構(gòu)： 一體式結(jié)構(gòu)（內(nèi)置真空泵）或分體式（外置真空泵）

內(nèi)箱材質(zhì)： SUS304#不銹鋼

外箱材質(zhì)： SECC鋼板高級烤漆處理

使用電源： AC 單相 三線 220V 50HZ或AC 三相 五線 380V 50HZ

選加功能： 加熱功能（RT+10℃～200℃）

真空泵： 另購（可用戶自備）

VCD高真空箱在航天領(lǐng)域的應(yīng)用尤為突出。航天器在發(fā)射前需要進(jìn)行各種測試，其中包括在高真空環(huán)境下的測試。VCD高真空箱能夠提供這樣的環(huán)境，模擬航天器在太空中的工作環(huán)境，從而測試航天器和航天器部件的性能和可靠性。這種設(shè)備對于確保航天器在太空環(huán)境中的正常工作起到了關(guān)鍵作用。
除了航天領(lǐng)域，VCD高真空箱還在其他領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。例如，它可以用于制備高質(zhì)量薄膜，通過加熱蒸發(fā)待制備材料，在真空環(huán)境下進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，形成薄膜。在這個過程中VCD高真空箱需要施加一定的壓力，以保證材料在高溫下均勻地蒸發(fā)和沉積在基底上。因此，VCD高真空箱壓力的大小直接影響到薄膜的質(zhì)量和均勻性。

總的來說，VCD高真空箱是一種功能雖大、應(yīng)用廣泛的設(shè)備。它通過精確控制真空室內(nèi)的條件，為科研和生產(chǎn)單位提供了高質(zhì)量的半導(dǎo)體器件、集成電路和薄膜制備解決方案。隨著科技的不斷進(jìn)步，VCD高真空箱將在更多領(lǐng)域發(fā)揮其作用，推動科技的進(jìn)步和發(fā)展。