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關于日揚WEH®涂裝工藝介紹

來源：深圳市科銳詩汀科技有限公司 2023年12月20日 15:00

WEH ®涂裝工藝介紹

“WEH ®涂裝工藝”是一種納米涂層工藝，成功應用于薄膜沉積和干刻蝕制程，是一種在真空環境下進行的高科技表面處理技術。該技術可以在材料表面上形成一層均勻、致密、具有特殊功能的薄膜，減少工藝殘留物的粘附，提高材料的抗腐蝕性和使用壽命。

在電子領域，WEH ®真空涂層技術可以用于電子元器件、顯示器、半導體、太陽能電池等產品的制造過程中，應用范圍非常廣泛。

WEH ®真空涂層介紹/ABOUT WEH®

常用于前級管道以減少副產品粘附的3M3700 涂層已于2021年停止生產。與此同時，WEH®涂層經過層層檢驗進入市場，它有許多優異的特性，如高硬度、高接觸角、抗腐蝕等。目前WEH ® 已成功應用于某半導體廠商的排氣系統，如廠區的氣體管線、干泵和渦輪泵等，它有效幫助企業緩解了真空管道和設備內的粉塵顆粒堵塞問題。

1真空零件涂層的分類

	陶瓷類	環氧類
物性	薄，硬	厚，軟
顏色	透明無色	黑色、綠色、白色
產品例	WEH ®, 3M 3700	Epoxy-base Teflon

WEH ®涂層的性質

經過日揚科技一系列的產品測試和市場實例檢驗，WEH ®涂層較之其他的同類產品，有著良好的疏水性、耐溫性、接著性和抗腐蝕性，同時，其高硬度和低粗糙度也符合真空零件納米涂層的優異特性。在薄膜沉積系統和干刻蝕制程中，該涂層表現效果良好。

WEH ®涂層的作用

WEH ®涂層：有效延長使用壽命和零件保護

WEH ®涂層有效保護了部分制程特別是例如AI-Pad、ALD和MOCVD制程中所需的設備與管道，在真空環境下的的薄膜沉積與干刻蝕系統中，設備與零件有著非常高的精度和技術要求，這意味著它們的維護周期對產線稼動率和生產效益的影響非常大。

WEH ®涂層的COA認證

WEH ®認證（Certified of Analysis,COA）

項目	規格
疏水性	油墨在表面無法書寫
厚度	0.5~ 5um
粗糙度	≦ 1 um
斷裂強度	≦ 6.0×10-9 mbar?/sec

現場測試 Field Test at 5B

—進行涂裝WEH ® 處理的金屬部件—

從圖中可以看出，在金屬內壁進行WEH ®涂裝處理后，使得背壓大幅降低，長時間不衰減。

進行中的測試案例 5

劃格測試Cross-Cut Test

劃格測試采用的是3M 600 Scotch type，在切口邊緣分離出小的WEH ®薄片，不大于 5% 的橫切區域，表示符合4B ~ 5B的測試標準。

接觸角測試Contact Angle Test

WEH ®具有106.15度的接觸角，表示材料具有疏水性，不易產生殘留物粘附。

腐蝕性測試 Corrosion Test

腐蝕測試步驟：

1.滴上數滴鹽酸 HCl 在測試樣品表面。

2.等待24 hr，測量腐蝕面積。

3.測試結果（腐蝕面積）：

WEH ® < 3M3700 < Non Coating

表面粗糙度測試Roughness Variation

表面粗糙度對沉積的影響非常大，隨時間的推移，零件的內表面容易造成殘留物沉積，進而降低氣體流速，影響反應速率。WEH ®涂層經試驗測出對降低材料表面粗糙度有很大作用。

硬度測試Hardness Test

1.硬度測試根據ASTM D3363-22通過鉛筆測試進行

2.環境溫度:(23 +/- 2)℃

3.濕度: (50 +/- 5)%

除去以上檢驗之外，WEH ®還通過了沉積物對比、電子能譜分析和等離子蝕刻測試，其蝕刻速率是氧化物的1/50，蝕刻速率小于0.5 nm/min，這意味著WEH®可以保護部件免受離子轟擊的損壞。

好的證明是市場的證明，目前WEH ® 已成功應用于某半導體廠商的排氣系統，它有效地緩解了電子器件制程中的設備粉塵顆粒阻塞問題。其優異的特性幫助客戶拉長了設備維護周期，節省了大量維護成本。

日揚一直秉承著“成為客戶有價值的伙伴”的企業使命，幫助客戶發現問題、分析問題、解決問題。如果您需要更多關于WEH®的產品咨詢，請聯系我們。1 3 5 0 2 8 6 1 4 1 5

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