X射線熒光光譜儀簡(jiǎn)稱XRF，是一種具有快速、無損、多元素同時(shí)分析、操作簡(jiǎn)單、使用成本較低的檢測(cè)儀器，在冶金、水泥、礦石、石油、化工、醫(yī)療、土壤、塑料、RoHS、首飾、鍍層等多個(gè)領(lǐng)域和行業(yè)發(fā)揮著重要作用。下面和一六儀器一起了解X射線熒光光普儀技術(shù)原理及優(yōu)勢(shì)。

　　X射線熒光光譜儀由X射線發(fā)生器、探測(cè)器、輔助控制系統(tǒng)、工控電腦及其內(nèi)置的專用算法軟件系統(tǒng)組成。

　　在高壓電源產(chǎn)生高電壓的情況下，X射線管內(nèi)的高速電子流激發(fā)到金屬靶材上產(chǎn)生初級(jí)X射線，通過準(zhǔn)直和濾光后激發(fā)到樣品表面，樣品內(nèi)的原子核外電子產(chǎn)生躍遷，躍遷的能量即為二次X射線，又稱特征譜線。每種元素的特征譜線的波長(zhǎng)和能量均不相同，在經(jīng)過特定的光電探測(cè)器檢測(cè)后，轉(zhuǎn)換為不同高度的脈沖信號(hào)，這些信號(hào)經(jīng)過特殊的信號(hào)處理之后，就可以得到計(jì)算機(jī)軟件能識(shí)別的光譜譜形，最后經(jīng)過FP算法處理計(jì)算，即可得到成分和鍍層厚度的分析結(jié)果。

　　X射線熒光光譜儀優(yōu)勢(shì)：

　　1)搭載微聚焦加強(qiáng)型X射線發(fā)生器和*的光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng);

　　2)擁有無損變焦檢測(cè)技術(shù)，手動(dòng)變焦功能，可對(duì)各種異形凹槽件進(jìn)行無損檢測(cè)，凹槽深度范圍0-30mm;

　　3)核心EFP算法，可對(duì)多層多元素，包括同種元素在不同層都可快、準(zhǔn)、穩(wěn)的做出數(shù)據(jù)分析(釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB，精準(zhǔn)檢測(cè)一層Ni和第三層Ni的厚度);

　　4)配備高精密微型移動(dòng)滑軌，可實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)位、多樣品的精準(zhǔn)位移和同時(shí)檢測(cè);

　　5)可同時(shí)分析23個(gè)鍍層，24種元素，測(cè)量元素范圍：氯Cl(17)- 鈾U(92)，涂鍍層分析范圍：鋰Li(3)- 鈾U(92)，涂鍍層檢出限：0.005μm;

　　6)人性化封閉軟件，自動(dòng)判斷故障提示校正及操作步驟，避免誤操作;

　　7)配有微光聚集技術(shù)，最近測(cè)距光斑擴(kuò)散度10%;

　　以上就是一六儀器整理分享的關(guān)于X射線熒光光譜儀技術(shù)原理及優(yōu)勢(shì)。想了解更多相關(guān)資訊，歡迎持續(xù)關(guān)注。