關(guān)于離子污染測試儀的發(fā)展和討論摘要：本文著重介紹用于對清洗后電路板上的殘余離子污染物的測試手段，國外關(guān)于此領(lǐng)域的相關(guān)標準以及這些相關(guān)標準和手段的發(fā)展過程。比較了不同儀器的一些主要參數(shù)和應(yīng)用現(xiàn)狀，部分用戶需求動向和如何滿足的方法。關(guān)鍵詞：清洗離子污染物測試電阻率電導(dǎo)率原子吸收
隨著改革開放，中國的電子業(yè)獲得了飛速發(fā)展，電子工業(yè)的各個領(lǐng)域均進行了技術(shù)革新和技術(shù)引入，并逐漸形成系統(tǒng)和理論。在 sAI - f 技術(shù)這個領(lǐng)域也獲得了較大發(fā)展，甚至有的學(xué)院已經(jīng)建立了關(guān)于 sN . ' l ' f 技術(shù)的專業(yè)。清洗是 sN1 ' f 工藝的一個重要組成部分，而對清洗后殘存的離子污染物的測試則是對清洗工藝進行控制和監(jiān)測的一個重要組成部分。環(huán)境不僅關(guān)系到人類的生活，并且對電子產(chǎn)品的使用壽命和穩(wěn)定性產(chǎn)生重要影響。在二次世界大戰(zhàn)期間，在戰(zhàn)斗中使用的電信器材的損壞有 5 ( ) “是由于環(huán)境氣候引起的腐蝕和霉變等造成的，而存放在庫房中的產(chǎn)品的損壞率高達以）嘆。由此，涂敷保護進入了電子業(yè)。而涂層是對外部環(huán)境的影響的阻隔，而在組裝產(chǎn)品生產(chǎn)過程中弓｝入的微粒污垢、離子性導(dǎo)電污垢和有腐蝕作用的污垢，如果未加清洗，則涂層失去了保護的意義，因為其內(nèi)部已經(jīng)受到污染。而清洗后一定要有一種手段能夠?qū)ζ溥M行監(jiān)控，即測試電路板是否已經(jīng)達到了清潔標準。這就是要對離子污染進行測試的原因。美國對此進行了研究，并制定了相關(guān)標準。什么是離子污染測試儀？離子污染物的特色是可溶于水，并且通常為有機或無機酸和鹽。電子部件和元器件經(jīng)常暴露于波峰焊、熱空氣環(huán)境、電鍍、刻蝕和化學(xué)清潔的等工藝過程中的污染物。離子污染鋇 l 試是用超純凈的萃取溶液從電子部件上移去工藝過程中留下的殘余物。對清潔結(jié)果的鋇 l 量是以傳導(dǎo)率或電阻系數(shù)為評判依據(jù)，把鋇 l 量值與標準比較。在此，標準是在純的 75 " lP 刀 25 " 水溶液中鋇 l 量氯化鈉的傳導(dǎo)率或電阻系數(shù)。依據(jù)決定需要給出此讀數(shù)的 NaCI 的數(shù)量的方式，測試結(jié)果可以表示為一個傳導(dǎo)率或電阻系數(shù)的函數(shù)，或更好地表示為在每單位樣品面積上等量的氯化鈉。一個樣品測試讀數(shù)為 4 . 5 微克 NaCI ／平方厘米，意謂著在測試結(jié)束時傳導(dǎo)率或電阻系數(shù)等同于 4 . 5 微克 NaC ！給出的數(shù)據(jù)而不是實際鋇 l 到了 4 . 5 微克 Nacl 。離子污染測試儀的起源 l 試的起源記載的污染萃取測量方法是由貝爾實驗室的’ f ．卜 Lgan 提出的。最初測試使用 l ( x ) % 去離子水。印第安那波利斯的航空電子中心進行了改進，他們使用 IP . , v 水的混和物來提高去除松香殘余物。此方法需要一個人手動噴淋醇 l 水溶液到鋇 l 試樣品上面。一旦噴淋和收集的數(shù)量達到川 nll 每平方英寸測試樣品的表面積，則停止嘖琳并且側(cè)量溶液的電阻值。此方式成為最原始的“測量方法” ( M IL 一 P 一 288 （為）。由于通過／失敗限度，需要萃取的溶液必須有最小 2 入 p 的電阻值。， \ l 油 a mctal 的 Jack Br 曲、博士獨立開發(fā)了以“動態(tài)”方式的改進技術(shù)。后來的影響使這些鋇 l 試技術(shù)形成了兩種主要類型的測試儀器一一靜態(tài)和動態(tài)。
儀器用途：用于PCB電路板清洗工序前后離子污染程度的測試
儀器特點：1.結(jié)構(gòu)采用全封閉循環(huán)系統(tǒng)2.測試方法：靜態(tài)/動態(tài)一體。3.可根據(jù)客戶要求容量定制
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