CPS納米粒度分析儀差示離心沉降原理帶來的優(yōu)勢(shì)

來源：儒亞科技（北京）有限公司 2021年09月24日 09:03

　　CPS納米粒度分析儀，有別于傳統(tǒng)方法，通過差示離心沉降原理為顆粒的精細(xì)區(qū)分提供新的解決方案

　　這種原理有以下幾點(diǎn)優(yōu)勢(shì)：

　　分辨率高：

　　同激光散射和顆粒計(jì)數(shù)法等方法比較，該方法有非常高的分辨率。對(duì)于只有 1%的顆粒差異分布的時(shí)候，該方法測(cè)定的結(jié)果仍然有好的分離效果。您能看到的是顆粒分布本身，而不是分布顆粒的混合圖。

　　靈敏度高：

　　低至 10-8 g 的樣品就可以滿足日常分析需要。

　　重復(fù)性高：

　　樣品結(jié)果在95%的典型置信度下，連續(xù)重復(fù)分析峰的重復(fù)性小于+/-1% 或更好。

　　快速、高精度數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換:

　　可用信號(hào)分辨率(即軟件操作的對(duì)象)決定于數(shù)模轉(zhuǎn)換的過程。CPS系統(tǒng)使用的數(shù)模轉(zhuǎn)換可以實(shí)現(xiàn)在每秒31次取樣時(shí)保持20位以上的精度，幾百萬分之一的誤差。

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