一、工作原理：

1.1 沸點(diǎn)隨著氣壓的下降而降低。水的沸點(diǎn)在負(fù)壓下顯著降低，在氣壓降至-0.089Mpa時(shí)，理論沸點(diǎn)可以降至至45℃。在負(fù)壓環(huán)境下，水分更易于氣化。

1.2 兩層單控真空烤爐在常壓下加熱一段時(shí)間后電池或極片中的水分轉(zhuǎn)化為水蒸氣；水分蒸發(fā)后抽真空可以將水蒸氣抽出；充氮?dú)馄普婵眨３指稍锃h(huán)境。實(shí)際的烘烤過(guò)程中根據(jù)不同的工藝以上三個(gè)步驟先后各不相同，一般都要多次循環(huán)。

二、兩層單控真空烤爐技術(shù)參數(shù)

型號(hào)：HE-ZK-2

1、內(nèi)尺寸：700(寬)×800(深)×380(高)mm；（2箱式）

2、外尺寸約：980(寬)×1100(深)×1750(高)mm以實(shí)物為準(zhǔn)；

3、每箱內(nèi)分二層，底起50mmdi一層，配不銹鋼網(wǎng)板二個(gè)，可活動(dòng)抽出；

4、內(nèi)材質(zhì)為：304#不銹鋼工業(yè)板,厚4.0mm，加強(qiáng)處理，抽真空不變形；

5、外材質(zhì)為：冷軋鋼板,厚1.2mm,粉體烤漆處理；

6、保溫材質(zhì)為：耐高溫巖棉，保溫效果好；

7、密封材質(zhì)為：耐高溫硅膠條；

8、安裝活動(dòng)腳輪及可調(diào)固定腳座，可任意推動(dòng)；

9、箱體結(jié)構(gòu)為分體式，左部分為上、下產(chǎn)品箱，右部分真空泵；

三、控溫系統(tǒng)：

1、溫度控制為PID方式數(shù)顯儀表（中國(guó)臺(tái)灣臺(tái)松儀表），單點(diǎn)式控溫，可自動(dòng)演算，PV/SV同時(shí)顯示，按鍵設(shè)定；

2、計(jì)時(shí)器設(shè)定， 1秒－9999時(shí)（可選擇設(shè)定小時(shí)、分鐘、秒）溫到計(jì)時(shí)，時(shí)間至切斷加熱電流 (報(bào)警裝置)

3、感溫線（K）型；

4、輸出為3-32V；

5、電流控制器為：固態(tài)繼電器SSR無(wú)接點(diǎn)；

6、升溫速率:RT－250℃約45分鐘；

7、采用三面加熱，熱輻射對(duì)流方式，發(fā)熱管安裝于內(nèi)箱外壁左、右、底三面；

8、加熱元件為：不銹鋼高溫發(fā)熱管；

9、溫度范圍：常溫+30至250℃之間；

10、控制精度±2.0℃；

11、顯示精度1.0℃；

12、箱內(nèi)溫度分布均勻度±5℃%（根據(jù)客戶(hù)要求做成單開(kāi)門(mén)，溫度均勻度進(jìn)一步改善）.

13、每箱獨(dú)立控制。

14、每層箱子安裝3根測(cè)試線供客戶(hù)測(cè)試溫度使用

四、真空系統(tǒng)

1、本機(jī)采用高密度性的硅膠密封條，進(jìn)行門(mén)口處密封；

2、機(jī)臺(tái)采用指針式真空表，顯示即時(shí)真空度；

3、機(jī)臺(tái)真空度范圍：0MPa至-0.1MPa，真空度：≤133P；

4、真空控制方式：手動(dòng)控制，啟動(dòng)、停止、解壓；

5、8升直連式真空泵（客戶(hù)自配）.

五、充氮?dú)庋b置

1、調(diào)壓閥：控制氮?dú)鈮毫ΓＪ褂孟碌獨(dú)鈮毫φ{(diào)為2.5公斤左右；

2、面板流量計(jì)：控制氮?dú)膺M(jìn)入箱內(nèi)的大小，量程為10L/min-60Lmin；

3、氮?dú)夤艿肋M(jìn)入到箱內(nèi)正后面，調(diào)壓閥處預(yù)留8mm快插氣管接口；

4、注：氮?dú)庥捎脩?hù)自備。