傳統(tǒng)直接蒸發(fā) HfO₂塊材料, 容易產生節(jié)瘤缺陷, 吸收很大, 限制了薄膜的激光損傷閾值, 因此, 為了獲取高質量的 HfO₂ 薄膜, 某機構采用 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 輔助鍍制 HfO₂ 薄膜.

客戶的樣品基底材料為 K9 玻璃, 靶材為 HfO₂塊材料, 運行的離子源偏壓為 90V.

伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術參數(shù):

* 可選: 可調角度的支架

應用結果：

通過使用伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 在偏壓為 90V 時, 制造得到的HfO₂ 薄膜晶粒減小, 膜結構更均勻, 緩解了激光能量的局部聚焦, 因此具有較高的損傷閾值.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口品牌的代理商.