MCR高級流變儀MCR顯微可視流變儀

儀器簡介：

    流變-顯微可視模塊與 MCR 流變儀配套使用，可以在進行流變測試的同時觀察樣品的內部結構。

    光學顯微可視模塊與流變學方法相結合，可以觀察剪切力和變形力對樣品微觀結構的影響，結構參數和流變參數可以同時進行研究。例如，您可以通過顯微鏡觀察和記錄剪切場中不同位置的受剪切乳液結構。

MCR高級流變儀MCR顯微可視流變儀

設備結構

    流變-顯微可視模塊由 CCD 攝像機、長焦物鏡（可選擇厚玻璃光學修正或未修正的鏡頭）和可更換的成像管模塊組成。根據應用的需要，可以選擇具有偏光組件或沒有偏光組件、或具有熒光顯微鏡濾片的顯微鏡系統，集成在顯像管上的光源從樣品下方照射到樣品上。該系統采用模塊化設計，光源、CCD 攝像頭和物鏡（放大倍數：5X、10X、20X、50X）都可以進行更換。顯微鏡可以沿 y 方向和 z 方向移動，用于聚焦和選擇合適的觀測區域。把此系統從流變儀上卸下并固定在支架中（不包括在系統中），即可用作獨立的顯微鏡。

    使用帕爾貼通用光學溫控附件 (P-PTD 200/GL) 進行流變測試。同時使用具有技術的帕爾貼溫控罩，可以精確控制的溫度高可達 200 °C。對于平行板測量系統，玻璃材質的測量轉子可以減少反射光的影響，也可以選配薄玻璃下面組件，可以在使用未進行光學修正鏡頭的情況下得到更好質量的圖像。

技術參數：

顯微鏡

長焦物鏡，標準放大倍數 20X（可按需提供 5X、10X 和 50X 的物鏡）

光源（可更換）

可選用偏振、非偏振和熒光顯微鏡（模塊1：450 nm - 490 nm，>515 nm，模塊2：515 nm - 560 nm，>590 nm）

P-PTD 200/GL 帕爾貼通用光學溫控系統

測量系統