德國retschXRD-Mill McCrone

XRD-Mill McCrone

XRD-Mill McCrone專為X射線衍射（XRD）分析的樣品制備而研發(fā)，主要應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)、材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。

XRD-Mill McCrone具有*的研磨方式：研磨塊的運(yùn)動為線性撞擊和平面剪切兩種方式，所以研磨時(shí)間短，幾乎沒有樣品損失，得到特別窄的粒徑分布。

晶格在研磨過程中幾乎*保留。  

研磨容器是一個(gè)125 ml容量的聚丙烯罐，配一個(gè)無墊圈螺帽的聚乙烯蓋。研磨罐被48個(gè)有序排列的圓柱形研磨塊充滿，材質(zhì)有瑪瑙，氧化鋯和剛玉。的磨時(shí)間是在3-30分鐘，典型的樣品體積是在2-4 ml之間。

應(yīng)用實(shí)例

borides, clay, mica, nitrides, slate, 建筑原料, 植物原料, 水泥, 玻璃, 礦物, 碳化物, 金屬, 陶瓷, 骨頭

德國retschXRD-Mill McCrone

優(yōu)點(diǎn)

研磨過程中晶格被保留。

粒徑分布窄。

幾乎沒有交叉污染。

緊湊、桌面型機(jī)型

可調(diào)研磨功率(4步)

適合于干磨和濕磨。

清洗方便。

免維護(hù)。

運(yùn)行安靜。

性能指標(biāo)

應(yīng)用    搗磨、混和與研磨制樣；干磨或濕磨

應(yīng)用領(lǐng)域    X-ray diffraction

樣品特征    中硬性, 硬的, 脆性的, 含纖維的

大進(jìn)樣尺寸    <0.5毫米

終出料粒度 *    < 1 μm

網(wǎng)頻50赫茲（60赫茲）下的轉(zhuǎn)速    1,000 - 1,500 min-1 4步

研磨平臺數(shù) (可接納研磨罐數(shù))    1

典型粉碎時(shí)間    3 - 30 min

干磨    是

濕磨    是

低溫研磨    -

研磨套件材料：    瑪瑙, 氧化鋯, 金剛石

研磨罐尺寸    125 ml

粉碎時(shí)間設(shè)定    數(shù)字顯示，00:00:01 至 99:59:50

驅(qū)動    DC-Motor

驅(qū)動功率    50W

電源數(shù)據(jù)：    220-240 V, 50/60 Hz

電源接頭：    單相

防護(hù)類型    IP 30

接受功率    100W

機(jī)體尺寸（寬x高x縱深）    205 x 155 x 520 mm

凈重    ~19 kg

標(biāo)準(zhǔn)    CE

Please note:

受樣品材料性質(zhì)和儀器配置/設(shè)定的影響

作用原理

XRD-Mill McCrone主要依靠摩擦力研磨樣品。48個(gè)圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排，每排6件。

在運(yùn)行過程中，罐子做圓周運(yùn)動，研磨塊把樣品從小于0.5 mm研磨到亞微米水平（通常小于10 um）。

由于研磨過程很溫和，所以晶格可以完整保留。這使得XRD-Mill McCrone成為X射線衍射分析樣品制備的選擇。